1,3 -二乙基- 1,1,3,3-四苯基二甲硅基胺 基本信息
| 中文名稱 | 1,3 -二乙基- 1,1,3,3-四苯基二甲硅基胺 |
|---|---|
| 中文同義詞 | 1,3 -二乙基- 1,1,3,3-四苯基二甲硅基胺;1,3-二乙基-1,1,3,3-四甲基二硅烷胺;1,3-二乙基-1,1,3,3-四甲基-二硅氮烷;1,3-二乙基-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷【CAS：17882-94-9】【規(guī)格：10g】【純度：95%】;1,3-二乙基-1,1,3,3-四甲基二硅氮烷【CAS:17882-94-9】【規(guī)格:10g】【純度:95%】 |
| 英文名稱 | 1,3-DIETHYL-1,1,3,3-TETRAMETHYLDISILAZANE |
| 英文同義詞 | 1,3-DIETHYL-1,1,3,3-TETRAMETHYLDISILAZANE;1,3-DIETHYL-1,1,3,3-TETRAMETHYLDISILAZANE, PURISS, 98%;1,3-DIETHYL-1,1,3,3-TETRAMETHYLDISILAZA&;1,3-DIETHYL-1,1,3,3-TETRAMETHYLDISILAZANE 97%;1,3-DIETHYLTETRAMETHYLDISILAZANE;[[[ethyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethane;Silanamine, 1-ethyl-N-(ethyldimethylsilyl)-1,1-dimethyl-;1,3-Diethyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazane >98.0% |
| CAS號 | 17882-94-9 |
| 分子式 | C8H23NSi2 |
| 分子量 | 189.45 |
| EINECS號 | |
| 相關(guān)類別 | Vapor Deposition Precursors;Chemical Synthesis;CVD and ALD Precursors by Metal;Materials Science;Micro/NanoElectronics;Organometallic Reagents;Silazanes;Silicon;SilazanesVapor Deposition Precursors;Organometallic Reagents;Organosilicon;Precursors by Metal |
| Mol文件 | 17882-94-9.mol |
| 結(jié)構(gòu)式 |  |
1,3 -二乙基- 1,1,3,3-四苯基二甲硅基胺 性質(zhì)
| 沸點 | 93 °C |
|---|---|
| 密度 | 0,8 g/cm3 |
| 閃點 | 55°C |
| 形態(tài) | 液體 |
| 酸度系數(shù)(pKa) | 12.86±0.70(Predicted) |
| 比重 | 0.818 |
| 水解敏感性 | 7: reacts slowly with moisture/water |
| InChI | 1S/C8H23NSi2/c1-7-10(3,4)9-11(5,6)8-2/h9H,7-8H2,1-6H3 |
| InChIKey | MHRNQQUEUYMEEH-UHFFFAOYSA-N |
| SMILES | CC[Si](C)(C)N[Si](C)(C)CC |
安全信息
| 危險品標志 | C |
|---|---|
| 危險類別碼 | 10-34 |
| 安全說明 | 26-36/37/39-45-16 |
| 危險品運輸編號 | 2734 |
| WGK Germany | 3 |
| 存儲類別 | 3- 易燃液體 |
| 危險性類別 | 易燃液體 類別3 皮膚腐蝕 類別1B |