甲基硼
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- CAS號:
- 593-90-8
- 英文名:
- TRIMETHYLBORON
- 英文別名:
- C3H9B;(CH3)3B;TRIMETHYLBORON;trimethylborine;99.9-B, PURATREM;Trimethyl borane;Borane,trimethyl-;Trimethylboron,98%;trimethylborane(3);TRIMETHYLBORANE,98%
- 中文名:
- 甲基硼
- 中文別名:
- 甲基硼;三甲基硼;三甲硼[烷]
- CBNumber:
- CB7331901
- 分子式:
- C3H9B
- 分子量:
- 55.91
- MOL File:
- 593-90-8.mol
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甲基硼化學(xué)性質(zhì)
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熔點:
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-161,5°C
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沸點:
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-20,2°C
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密度:
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0,625 g/cm3
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形態(tài):
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liquid
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比熱容:
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Cp(gas): 1.58 J/(g·K), at 25℃
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甲基硼性質(zhì)、用途與生產(chǎn)工藝
非晶硅太陽能電池具有制造成本低、便于大規(guī)模生產(chǎn)等特點,近年來得到了廣泛應(yīng)用,并受到人們的普遍關(guān)注。P型窗口材料的質(zhì)量對太陽能電池的性能具有重要影響,改善P型材料特性是提高太陽能電池性能的有效途徑。目前,非晶硅太陽能電池生產(chǎn)線主要用乙硼烷或者三甲基硼做摻雜劑。使用乙硼烷做摻雜劑時,材料的暗電導(dǎo)率和光學(xué)帶隙相互 制約的現(xiàn)象較為嚴(yán)重,主要是因為乙硼烷分子結(jié)構(gòu)中存在B-B鍵和B-H鍵,在氣相沉積過程中,這些鍵的結(jié)構(gòu)容易生長在薄膜材料中,導(dǎo)致材料缺陷態(tài)密度較高,電導(dǎo)率的增加抑制了光學(xué)帶隙的增加。
而用三甲基硼作為摻雜劑時,分子中不存在B-B鍵和B-H鍵結(jié)構(gòu),從而有效減少了材料中的缺陷態(tài)密度,提高摻雜效率。三甲基硼穩(wěn)定性好,毒性較小,制成的非晶硅太陽能電池轉(zhuǎn)換率高,能制備出寬光學(xué)帶隙且高電導(dǎo)的優(yōu)質(zhì)P型窗口材料。從目前發(fā)展趨勢看,三甲基硼比乙硼烷在非晶硅太陽能電池制備上具有更廣闊的前景。
用途
三甲基硼主要應(yīng)用于硅薄膜太陽能電池,作為P型摻雜源。目前,硅薄膜太陽能電池生產(chǎn)線上用三甲基硼或乙硼烷作為P型摻雜源,與乙硼烷相比,用三甲基硼摻雜可以大幅度降低P材料中的B—B鍵和B原子的密度,從而有效減少材料中的缺陷態(tài)密度,提高摻雜效率。由于三甲基硼穩(wěn)定性好,毒性小,污染小,制成的硅薄膜太陽能電池轉(zhuǎn)換率高,是能夠制備出寬光學(xué)帶隙且高電導(dǎo)的優(yōu)質(zhì)P型材料,從長遠(yuǎn)看有取代乙硼烷的趨勢。
甲基硼
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