テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV)
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 物理性質(zhì)
- 沸點(diǎn) :
- 81 °C0.1 mm Hg(lit.)
- 比重(密度) :
- 1.049 g/mL at 25 °C(lit.)
- 閃點(diǎn) :
- 50 °F
- 外見 :
- 液體
- 色:
- ライトイエロー
- 比重:
- 1.049
- Sensitive :
- Air & Moisture Sensitive
- Hydrolytic Sensitivity:
- 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
- InChI:
- InChI=1S/4C3H8N.Zr/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
- InChIKey:
- SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N
- SMILES:
- [Zr](N(C)CC)(N(C)CC)(N(C)CC)N(C)CC
安全性情報(bào)
- リスクと安全性に関する聲明
- 危険有害性情報(bào)のコード(GHS)
| 主な危険性 |
F,Xi |
|
|
| Rフレーズ |
11-14-36/37/38-14/15 |
|
|
| Sフレーズ |
16-26-36 |
|
|
| RIDADR |
UN 3398 4.3/PG 2 |
|
|
| WGK Germany |
3 |
|
|
| TSCA |
No |
|
|
| 國連危険物分類 |
4.3 |
|
|
| 容器等級(jí) |
II |
|
|
| ストレージクラス |
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water |
|
|
| Hazard Classifications |
Eye Irrit. 2
Flam. Liq. 2
Skin Irrit. 2
STOT SE 3
Water-react 2 |
|
|
| 絵表示（GHS） |
 
|
| 注意喚起語 |
危険 |
| 危険有害性情報(bào) |
| コード |
危険有害性情報(bào) |
危険有害性クラス |
區(qū)分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H225 |
引火性の高い液體および蒸気 |
引火性液體 |
2 |
危険 |
|
P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501 |
| H261 |
水に觸れると可燃性/引火性ガスを発生 |
水反応可燃性化學(xué)品 |
2
3 |
危険
警告 |
|
P231+P232, P280, P370+P378,P402+P404, P501 |
| H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
| H319 |
強(qiáng)い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
|
P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
| H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露； 気道刺激性 |
3 |
警告 |
|
|
|
| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高溫のもののような著火源から遠(yuǎn)ざ けること。－禁煙。 |
| P231+P232 |
濕気を遮斷し、不活性ガス下で取り扱うこと。 |
| P302+P352 |
皮膚に付著した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
|
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 価格
もっと(3)
| メーカー |
製品番號(hào) |
製品説明 |
CAS番號(hào) |
包裝 |
価格 |
更新時(shí)間 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
|
W01W0235-2222 |
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 97.0+% (NMR)
Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV) 97.0+% (NMR) |
175923-04-3 |
1g |
￥10000 |
2021-03-23 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
725528 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ジルコニウム(IV) packaged for use in deposition systems
Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV) packaged for use in deposition systems |
175923-04-3 |
10g |
￥198000 |
2024-03-01 |
購入 |
|
Sigma-Aldrich Japan
|
553131 |
テトラキス(エチルメチルアミド)ジルコニウム(IV) ≥99.99% trace metals basis
Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV) ≥99.99% trace metals basis |
175923-04-3 |
5g |
￥56800 |
2024-03-01 |
購入 |
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 化學(xué)特性,用途語,生産方法
外観
わずかにうすい黃色～褐色、液體
使用上の注意
アルゴン封入
使用
Precursors Packaged for Depositions Systems
一般的な説明
Atomic number of base material: 40 Zirconium
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 上流と下流の製品情報(bào)
原材料
準(zhǔn)備製品
テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV) 生産企業(yè)
Global( 74)Suppliers
175923-04-3(テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV))キーワード:
- 175923-04-3
- TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMINO)ZIRCONIUM
- ZIRCONIUM TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMIDE)
- Tetrakis(ethyl Methyl amido) zirconium
- tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(iv)
- tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(iv)
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV) 99%, 40-1710, contained in 50 ml Swagelok cylinder for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV), 99% TEMAZ, 40-1710, contained in 50 ml Swagelok cylinder for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium 99.999%
- Tetrakis(methylethylamino) zirconium
- Zirconium tetra(ethylmethylamide)
- Tetrakis(ethylMethylaMino)zirconiuM(IV) 99% TEMAZ, 40-1710, contained in 50 Ml Swagelok cylinder (96-1070) for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylMethylaMino)zirconiuM, 99% TEMAZ
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV), 99% TEMAZ
- TEMAZ: Zr[N(CH3)(CH2CH3)]4
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV) 99% TEMAZ, 40-1710, contained in 50 ml Swagelok(R) cylinder (96-1070) for CVD/ALD
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(IV) TEMAZ
- TETRAKIS(ETHYLMETHYLAMINO)ZIRCONIUM ISO 9001：2015 REACH
- Tetrakis(ethylmethylamino)zirconium(TEMAZ)
- Tetrakis(methylamino)zirconium
- Tertrakis（ethylmethylamino）zirconium
- Tetrakis(ethylmethylamido)zirconium(IV), TEMAZ
- TEMAZ
- テトラキス(エチルメチルアミノ)ジルコニウム(IV)
- テトラキス(エチルメチルアミド)ジルコニウム(IV)