鍍膜主要是為了減少反射，為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量。在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對(duì)這一波長的色光的反射降至最低。一層膜只對(duì)一種色光起作用，而多層鍍膜則可對(duì)多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5%，單層鍍膜后降至2%，而多層鍍膜可降至0.2%，這樣可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，從而提高影像的反差和明銳度。
氟化鎂鍍膜
氟化鎂是鍍膜材料的一種，氟化鎂晶體(MgF2)屬于四方晶系，熔點(diǎn)為1255℃，硬度高，機(jī)械性能好，化學(xué)性能穩(wěn)定，不易潮解和腐蝕，光學(xué)性能方面其主要特點(diǎn)是在真空紫外波段具有較高的透過率(170nm透過率仍在80%以上)，被廣泛應(yīng)用于光纖通信，軍工領(lǐng)域及各種光學(xué)元件。
氟化鎂鍍膜的應(yīng)用
氟化鎂鍍膜主要應(yīng)用：在普通的鋼化玻璃表面鍍膜，從而提高了鋼化玻璃表面的透光率以及實(shí)現(xiàn)了易清潔功能，同時(shí)還延長了玻璃的壽命。AR鍍膜玻璃目前可主要用于太陽能電池組件，光熱，建筑，汽車玻璃等領(lǐng)域。
氟化鎂鍍膜的制備
氟化鎂鍍膜用蒸發(fā)法，通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬，化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件如金屬，陶瓷，塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米，膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用把優(yōu)質(zhì)玻璃單面或雙面進(jìn)行工藝處理，使其與普通玻璃相比具有較低的反射比，使光的反射率降低到1%以下，普通玻璃在可見光范圍內(nèi)，它的單側(cè)反射率約為4%，總的光譜反射率約為8%。