窒化タンタル, 99.5% (metals basis)
|
- ¥28800 - ¥137200
- 化學(xué)名: 窒化タンタル, 99.5% (metals basis)
- 英語(yǔ)名: TANTALUM NITRIDE
- 別名:窒化タンタル, 99.5% (metals basis);タンタリオアミン
- CAS番號(hào): 12033-62-4
- 分子式: NTa
- 分子量: 194.95
- EINECS:234-788-4
- MDL Number:MFCD00049568
2物価
選択條件:
ブランド
- 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
パッケージ
- 10g
- 50g
- 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
- 製品番號(hào)W01ALF013093
- 製品説明窒化タンタル, 99.5% (metals basis)
- 英語(yǔ)製品説明Tantalum nitride, 99.5% (metals basis)
- 包裝単位10g
- 価格¥28800
- 更新しました2024-03-01
- 購(gòu)入
- 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
- 製品番號(hào)W01ALF013093
- 製品説明窒化タンタル, 99.5% (metals basis)
- 英語(yǔ)製品説明Tantalum nitride, 99.5% (metals basis)
- 包裝単位50g
- 価格¥137200
- 更新しました2024-03-01
- 購(gòu)入
| 生産者 | 製品番號(hào) | 製品説明 | 包裝単位 | 価格 | 更新時(shí)間 | 購(gòu)入 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) | W01ALF013093 | 窒化タンタル, 99.5% (metals basis) Tantalum nitride, 99.5% (metals basis) |
10g | ¥28800 | 2024-03-01 | 購(gòu)入 |
| 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) | W01ALF013093 | 窒化タンタル, 99.5% (metals basis) Tantalum nitride, 99.5% (metals basis) |
50g | ¥137200 | 2024-03-01 | 購(gòu)入 |
プロパティ
融點(diǎn) :3360°C
比重(密度) :14.6 g/cm3
溶解性 :insoluble in H2O; slightly soluble in aquaregia; reacts with alkaline solutions
外見(jiàn) :Powder
色 :black hexagonal, hexane crystals, crystalline
電気抵抗率 (resistivity) :128–135 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度 :Insoluble in water.
熱伝導(dǎo)率 :10.46 W/(m·K)
Crystal Structure :Hexagonal
CAS データベース :12033-62-4(CAS DataBase Reference)
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Tantalum nitride (TaN) (12033-62-4)
比重(密度) :14.6 g/cm3
溶解性 :insoluble in H2O; slightly soluble in aquaregia; reacts with alkaline solutions
外見(jiàn) :Powder
色 :black hexagonal, hexane crystals, crystalline
電気抵抗率 (resistivity) :128–135 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度 :Insoluble in water.
熱伝導(dǎo)率 :10.46 W/(m·K)
Crystal Structure :Hexagonal
CAS データベース :12033-62-4(CAS DataBase Reference)
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Tantalum nitride (TaN) (12033-62-4)
安全情報(bào)
| 絵表示(GHS): | ||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 注意喚起語(yǔ): | ||||||||
| 危険有害性情報(bào): |
|
|||||||
| 注意書き: |
|
説明
Tantalum nitride is used to create barrier or "glue" layers between copper, or other conductive metals, and dielectric insulator films such as thermal oxides. These films are deposited on top of silicon wafers during the manufacture of integrated circuits, to create thin film surface mount resistors and has other electronic applications.供給者とメーカー
career henan chemical co
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
Shaanxi Dideu Medichem Co. Ltd
Zhuoer Chemical Co., Ltd
Alfa Chemistry
Hebei Chuanghai Biotechnology Co., Ltd
Shanghai Acmec Biochemical Technology Co., Ltd.
Aladdin Scientific
SHANGHAI KEAN TECHNOLOGY CO., LTD.
XIAMEN AMITY INDUSTRY AND TRADE CO., LTD.



