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光致產(chǎn)酸劑:點(diǎn)亮光刻工藝,驅(qū)動(dòng)光刻膠挑戰(zhàn)制程極限 | 樂研試劑

發(fā)布日期:2026/7/6 15:52:33發(fā)布人:上海皓鴻生物醫(yī)藥科技有限公司閱讀量:6

光致產(chǎn)酸劑(Photoacid Generator, PAG)是一類在紫外或深紫外光照射下能夠高效分解并釋放出定量質(zhì)子酸的光敏化合物。根據(jù)分子結(jié)構(gòu)及電荷特性,光致產(chǎn)酸劑主要分為兩大類:離子型光致產(chǎn)酸劑(硫鎓鹽、碘鎓鹽)和非離子型光致產(chǎn)酸劑(肟磺酸酯、萘酰亞胺磺酸酯)。

其中,離子型光致產(chǎn)酸劑的陰離子結(jié)構(gòu)決定酸活性、擴(kuò)散率及光刻膠的感光度、分辨率,主要應(yīng)用于深紫外DUV光刻技術(shù),成本與穩(wěn)定性優(yōu)勢顯著。非離子型光酸分子骨架上的官能團(tuán)可以調(diào)節(jié)吸光特性,具有低擴(kuò)散、高電子敏化效率的特性,因此其被應(yīng)用于極紫外EUV光刻技術(shù)。


圖 1 芯片制造的光刻工藝示意圖


光致產(chǎn)酸劑作為化學(xué)放大光刻體系中的核心功能材料,從根本上改變了現(xiàn)代微納制造的底層邏輯。光刻膠經(jīng)歷涂膠和軟烘后,光致產(chǎn)酸劑會均勻分散于光刻膠聚合物基質(zhì)中。當(dāng)光刻膠經(jīng)歷曝光后,曝光區(qū)域的PAG分子吸收光子后發(fā)生光解反應(yīng),定量生成強(qiáng)酸;隨后的后烘烤工序使這些質(zhì)子酸作為催化劑,驅(qū)動(dòng)光刻膠樹脂中的酸敏基團(tuán)發(fā)生脫保護(hù)或交聯(lián)反應(yīng),導(dǎo)致曝光區(qū)與未曝光區(qū)在顯影液中的溶解速率出現(xiàn)數(shù)量級的差異。

正是憑借這種“化學(xué)放大”機(jī)制,使得光引發(fā)產(chǎn)生的質(zhì)子酸能催化數(shù)百乃至上千個(gè)化學(xué)反應(yīng),大幅提升了光刻膠的感光靈敏度,為紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術(shù)提供了可行性支撐。


圖 2 光刻曝光光源迭代路線與分辨率演進(jìn)圖


目前,基于光致產(chǎn)酸劑的光刻體系已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片制造、微機(jī)電系統(tǒng)、微流控芯片等領(lǐng)域。從深紫外248nm、193nm到極紫外13.5nm,每一代光刻節(jié)點(diǎn)的躍進(jìn)都離不開光致產(chǎn)酸劑分子結(jié)構(gòu)與性能的不斷優(yōu)化—提升量子產(chǎn)率、調(diào)控酸擴(kuò)散長度、降低產(chǎn)氣釋放等。

可以說,如果沒有光致產(chǎn)酸劑,便無法實(shí)現(xiàn)7nm乃至更先進(jìn)制程的高良率生產(chǎn),也就沒有今天高度集成化的微處理器與存儲芯片。這項(xiàng)看似微觀的化學(xué)工具,實(shí)則是支撐整個(gè)數(shù)字時(shí)代底層制造技術(shù)不可或缺的基石。

我國集成電路產(chǎn)業(yè)起步較晚,當(dāng)前國產(chǎn)光刻膠呈現(xiàn)顯著的階梯式發(fā)展格局。在PCB和顯示面板領(lǐng)域,國產(chǎn)化率已達(dá)到55%左右,已形成規(guī)模化的成熟供應(yīng)鏈。

但進(jìn)入集成電路制造的核心賽道,國產(chǎn)化率驟然下滑:g/i線光刻膠國產(chǎn)化率僅10%-15%,主要用于6-8英寸成熟制程;KrF光刻膠約1%-5%,主要用于功率器件、邏輯芯片的成熟制程;而ArF光刻膠國產(chǎn)化率不足1%,EUV光刻膠仍為空白。從更宏觀的國產(chǎn)替代水平看,高端光刻膠國產(chǎn)化率約5%,整體自給率仍處于較低水平。



圖 3 光刻膠專用高純PAG公斤級包裝實(shí)拍圖


為了助力解決我國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展中關(guān)鍵光刻工藝材料的卡脖子問題,樂研試劑聯(lián)合中國科學(xué)院上海有機(jī)化學(xué)研究所沈其龍課題組共同開發(fā)適用于DUV和EUV光刻膠的光致產(chǎn)酸劑。目前已完成四十余款PAG分子的合成和純化工藝開發(fā),涵蓋離子型光致產(chǎn)酸劑(硫鎓鹽、碘鎓鹽)和非離子型光致產(chǎn)酸劑(肟磺酸酯、萘酰亞胺磺酸酯)。

已中試量產(chǎn)的產(chǎn)品在純度、金屬雜質(zhì)等關(guān)鍵性能指標(biāo)達(dá)到國際供應(yīng)商同等水平,其中化學(xué)純度可達(dá)99.5%以上;在金屬離子含量方面,單一金雜小于10ppb,總金雜小于50ppb。近些年,結(jié)構(gòu)新穎的離子型和非離子型光致產(chǎn)酸劑不斷被開發(fā)和公斤級放大,部分光致產(chǎn)酸劑分子已通過國內(nèi)芯片制造商的上線工藝驗(yàn)證。

最后,歡迎聯(lián)系樂研試劑就DUV和EUV光刻膠用光致產(chǎn)酸劑的相關(guān)產(chǎn)品和定制服務(wù)洽談合作!


上海有機(jī)化學(xué)研究所沈其龍


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