一、什么是派瑞林CVD工藝
派瑞林CVD(Parylene CVD,Chemical Vapor Deposition)是一種在真空環(huán)境下進(jìn)行的高精度薄膜沉積技術(shù),廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)療器械、傳感器及高端精密設(shè)備領(lǐng)域。
該工藝通過氣相反應(yīng),在材料表面沉積形成一層均勻、致密且無針孔的超薄聚合物薄膜,用于實現(xiàn)絕緣、防潮、防腐及長期可靠性保護(hù)。
與傳統(tǒng)噴涂或浸涂方式不同,派瑞林CVD屬于氣相沉積工藝,能夠在復(fù)雜結(jié)構(gòu)表面實現(xiàn)真正意義上的“共形涂覆”。
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派瑞林氣相沉積(CVD)工藝原理
1.升華: 固態(tài)派瑞林原料在蒸發(fā)腔內(nèi)吸熱升華;
2.裂解: 升華后的氣體進(jìn)入裂解腔,在高溫下形成活性單體;
3.沉積: 裂解后的活性單體被送入室溫的真空沉積罐,在工件表面沉積聚合,形成一層致密的派瑞林防護(hù)涂層。
