7月24日，第二十七屆中國科協年會“電子化學品關鍵材料設計與制備”專題論壇在京召開。張鎖江院士指出，電子化學品是半導體制造、新能源、5G等戰(zhàn)略性新興產業(yè)的基石，亟需突破多尺度精準調控、批量一致性及超高純分離等關鍵技術瓶頸。我司長期深耕電子信息化學品領域，提供光刻膠用單體與光引發(fā)劑、濕法蝕刻液、高純清洗溶劑及薄膜沉積前驅體等系列產品，助力我國電子化學品產業(yè)鏈從“跟跑”向“并跑”跨越。
?產品優(yōu)勢及特點：
- - 光刻膠關鍵單體齊全：提供含氟丙烯酸酯、金剛烷衍生物、環(huán)狀單體等數十種光刻膠用單體，適用于ArF、KrF及EUV光刻膠體系，金屬離子含量可控制在≤50ppb。
- - 高純濕法電子化學品：氫氟酸、四甲基氫氧化銨（TMAH）、丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）等達到EL/ELH級，金屬雜質＜0.1ppb，滿足晶圓清洗、蝕刻、顯影等工藝要求。
- - 薄膜沉積前驅體：提供四(二甲氨基)鈦、二(二乙氨基)硅烷、三(二甲胺基)硅烷等CVD/ALD前驅體，純度≥99.99% metal basis，支持鋼瓶定制。
- - 光致產酸劑與光引發(fā)劑：三苯基硫三氟甲烷磺酸鹽、二苯基碘鎓鹽系列產品，純度≥98%，適用于化學放大光刻膠體系。
?應用場景：
- - 半導體光刻膠（ArF、KrF、EUV、i-line）單體及添加劑研發(fā)與生產
- - 晶圓制造中濕法蝕刻、清洗、顯影工藝
- - 薄膜沉積（CVD/ALD）前驅體材料開發(fā)
- - 電子化學品超高純分離、純化及痕量雜質控制項目
?相關產品
?光刻膠用含氟單體
| 品名 | CAS | 貨號 | 2,2,2-Trifluoroethyl acrylate, 98%, stabilized with 200 ppm MEHQ
2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯
407-47-6
2,2,3,3,3-Pentafluoropropyl acrylate, 97%
2,2,3,3,3-五氟丙基 丙烯酸酯
356-86-5
1H,1H,2H,2H-Perfluorooctyl acrylate, 95%
1H,1H,2H,2H-全氟辛基 丙烯酸酯
17527-29-6
1H,1H,5H-Octafluoropentyl methacrylate, 98%
1H,1H,5H-八氟戊基異丁烯酸酯
355-93-1
?光刻膠用金剛烷/環(huán)狀單體
| 品名 | CAS | 貨號 | 1,3-Adamantanediol, 98%, water ≤0.10%
1,3-金剛烷二甲醇
5001-18-3
1-Methacryloyloxy-3-adamantanol, 99.5%, water ≤500 ppm
3-羥基-1-金剛烷醇甲基丙烯酸酯
115372-36-6
1-Ethyl-cyclopentanol methacrylate, ≥99%, water ≤200 ppm
1-乙基-環(huán)戊醇甲基丙烯酸酯
266308-58-1
Dicyclopentanyl methacrylate, 99%, Containing stabilizer: MEHQ
甲基丙烯酸二環(huán)戊基酯
34759-34-7
?光刻膠添加劑與光引發(fā)劑
| 品名 | CAS | 貨號 | 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 99%
1-羥基環(huán)己基苯基甲酮
947-19-3
Diphenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide, 99%
(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦
75980-60-8
Triphenylsulfonium triflate, 99%
三苯基硫三氟甲烷磺酸鹽
66003-78-9
Bis(4-tert-butylphenyl)iodonium triflate, 98%
雙(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲磺酸鹽
84563-54-2
?濕法電子化學品
| 品名 | CAS | 貨號 | Hydrofluoric acid, HF:48.8-49.2 %, ELH-I
氫氟酸
7664-39-3
Tetramethylammonium hydroxide, 25% solution in H2O
四甲基氫氧化銨
75-59-2
Propylene glycol methyl ether acetate, 99.9%, ELH-Ⅲ
丙二醇單甲醚乙酸酯
108-65-6
1-Methoxy-2-propanol, 99.5%, EL-Ⅲ
丙二醇甲醚
107-98-2
Isopropanol, 99.9%, ELH-Ⅲ
異丙醇
67-63-0
Butyl acetate, 99.5%, EL-Ⅲ
乙酸丁酯
123-86-4
?薄膜沉積前驅體
| 品名 | CAS | 貨號 | Tris(dimethylamino)silane, 99%, 99.999% Si
三(二甲胺基)硅烷
15112-89-7
Bis(diethylamino)silane, 98%, ≥99.99% metal basis, for CVD/ALD, please refer to the details page for ordering and cleaning cylinder
二(二乙氨基)硅烷
27804-64-4
Tetrakis(dimethylamino)titanium, ICPMS-99.9999%
四(二甲氨基)鈦
3275-24-9
Tantalum(V) fluoride, 99.5%
五氟化鉭
7783-71-3
?其他關鍵材料
| 品名 | CAS | 貨號 | 4,4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride, 99.5%
4,4′-(六氟異丙烯)二酞酸酐
1107-00-2
Bis(4-(tert-butyl)phenyl)Iodonium chloride, 99%
二(4-叔丁基苯基)氯化碘
5421-53-4