氮化鈦的用途1.氮化鈦涂層廣泛用于金屬邊緣以保持機械模具的耐腐蝕性，如鉆頭和銑刀，常常由提高三個或更多的因素改善其壽命。2.由于其具有金屬光澤，常用作服裝和汽車裝飾點綴。作為外層涂層，通常以鎳（Ni）或鉻（Cr）為鍍基板，包裝管道和門窗五金。3.該涂層也用在航空航天和軍事方面，以及保護的自行車和摩托車的懸掛裝置滑動面，甚至遙控玩具車的減震軸。4.該材料無毒的，符合FDA規(guī)范，因此也常用于醫(yī)療器械，如保持手術(shù)刀刀片和骨科骨鋸刀邊緣的銳度，或直接作為植入假體（尤其是髖關(guān)節(jié)置換植入物）和其他醫(yī)學植入物。5.氮化鈦薄膜可用于微電子領域，作為有源器件和金屬接點之間的導電阻擋層。而將薄膜擴散到金屬硅中，它的導電率（30-70μΩ·cm）足以形成良好的導電連接。6.這種特殊的“阻擋金屬“還具有陶瓷的化學或機械性能，該工藝大量用于當前的45納米芯片設計中以提高晶體管的性能。在電池領域，通過將氮化鈦與柵介質(zhì)層（例如，HfSiO）組合，相比于標準的SiO2，可以提高介電常數(shù)，按比例縮小柵長度，低泄漏，較高的驅(qū)動電流，相同或更好的閾值電壓。7.較高的生物穩(wěn)定性使得該合金應用領域延伸到了生物電子電極，如視網(wǎng)膜下的假體項目和生物醫(yī)學中的微電子機械系統(tǒng)（生物微機電），使智能植入物或體內(nèi)生物傳感器能夠承受嚴重的體液腐蝕。合成方法最常用的氮化鈦薄膜合成方法是物理氣相沉積法（PVD，通常有濺射沉積，陰極電弧沉積或電子束加熱）和化學氣相沉積法（CVD）。兩種方法都是將純鈦升華，并在高能量真空環(huán)境中與氮氣反應。1.通過將粉末狀金屬鈦壓縮到適當?shù)拿芏龋?200℃純氮氣中由金屬和氣體之間的化學反應所釋放的熱量燒結(jié)成氮化物的反應產(chǎn)物氮化鈦粉末，如下反應式：2Ti+N2=2TiN。2.在高溫下，由四氯化鈦-氮的混合氣與氨-氫的混合氣反應，如下反應式：6TiCl4+32NH3=6TiN+24NH4Cl+N2。3.將鈦-氫-氮混合氣加熱到高溫通過石墨，冷卻后沉積在基體材料上形成膜。貯存避免過熱。該合金雖然化學性質(zhì)穩(wěn)定，但在熱的苛性堿或過熱的水蒸氣中分解逸出氫和氨。一般鈦化物(包括氮化鈦)在氮氣氛中經(jīng)高溫還原很易形成不純的氮化鈦。用途可用作熔鹽電解的電極和電觸頭等導電材料生產(chǎn)方法1.將金屬鈦放入加熱爐中，在氮氣氣流中，加熱至1000～1400℃反應直接得到氮化鈦?；蛘邔⒍趸伜吞家砸欢ū壤浞只旌?，放入加熱爐中，在氮氣氣流中加熱至1250℃還原氮化制得氮化鈦。采用氣相沉積法，由四氯化鈦、氮氣、氫氣混合氣體可以得到氮化鈦涂層。2.往四氯化鈦的蒸發(fā)器中通入H2和N2的混合氣體，并在該氣流中將鎢絲線圈通電加熱，即有氮化鈦結(jié)晶析出(用內(nèi)徑50mm的透明石英管為反應管)。實驗證明當?shù)獨夂蜌錃鉂舛认嗟龋穆然仢舛葹?.3%，鎢絲溫度在1300～1500℃時氮化鈦的析出速度。3.將四氯化鈦和氮氣的混合氣體與氨氣和氫氣的混合氣體加熱到700℃以上使它們反應。在反應出口處安裝一燒瓶來收集產(chǎn)物。產(chǎn)物中的副產(chǎn)物氯化銨在惰性氣流中于350℃加熱十幾分鐘即可除去，進而得到黑色氮化鈦粉末。4.直接合成法將金屬鈦放入加熱爐中，在氮氣氣流中，加熱至1000～1400℃直接合成得氮化鈦。5.二氧化鈦還原法將二氧化鈦和炭按比例充分混合，放入加熱爐中，在氮氣氣流中加熱至1250℃還原氮化制得氮化鈦。粉碎得微細產(chǎn)品。也可用四氯化鈦和甲烷、氮氣、氫氣氮化制得氮化鈦。