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N-亞硝基去甲基去甲文拉法辛,N-Nitroso Desmethyl Desvenlafaxine
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N-亞硝基去甲基去甲文拉法辛

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發(fā)貨地 湖北
更新日期 2026-06-02
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產品詳情

中文名稱:N-亞硝基去甲基去甲文拉法辛英文名稱:N-Nitroso Desmethyl Desvenlafaxine
CAS:3017268-48-0品牌: MOLCOO
產地: 武漢保存條件: -20°C
純度規(guī)格: 99% HPLC產品類別: 雜質對照品
貨號: N031256是否進口:
用途: 科學研究產品規(guī)格: mg
分子式: C15H22N2O3 別名: N-(2-(1-hydroxycyclohexyl)-2-(4-hydroxyphenyl)ethyl)-N-methylnitrous amide
2026-06-02 N-亞硝基去甲基去甲文拉法辛 N-Nitroso Desmethyl Desvenlafaxine 10mg/RMB;20mg/RMB;100mg/RMB MOLCOO 武漢 -20°C 99% HPLC 雜質對照品

N-亞硝基去甲基去甲文拉法辛

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聯系方式:杜經理 TEL: 17320513646(微信同號)    QQ: 2853567688



  • N - 亞硝基去甲基去甲文拉法辛(產品編號:N031256)

  • 1. 產品信息
  • 產品編號:N031256

  • 英文名:N-Nitroso Desmethyl Desvenlafaxine

  • 英文別名:N-(2-(1-hydroxycyclohexyl)-2-(4-hydroxyphenyl) ethyl)-N-methylnitrous amide(注:核心結構含 1 - 羥基環(huán)己基、4 - 羥基苯基、N - 甲基 - N - 亞硝基乙胺側鏈,是去甲文拉法辛(5 - 羥色胺 - 去甲腎上腺素再攝取抑制劑)合成或儲存階段,去甲基去甲文拉法辛的仲胺基團發(fā)生亞硝化反應生成的基因毒性雜質,區(qū)別于去甲文拉法辛的 N - 乙基無亞硝基取代的結構)

  • CAS 號:3017268-48-0

  • 分子式:C15H22N2O3

  • 分子量:278.35

  • 2. 優(yōu)勢
  • 基因毒性雜質專屬質控特性:純度經 UPLC-MS/MS 與手性色譜聯用技術雙重驗證,純度≥98.5%,無基因毒性檢測專屬通道干擾峰,明確含亞硝基(-NO)、1 - 羥基環(huán)己基、4 - 羥基苯基特征結構,與去甲文拉法辛主峰及常規(guī)工藝雜質分離度>2.5,可作為基因毒性雜質的專屬對照品,滿足 ICH M7 指導原則下的痕量質控需求。

  • 穩(wěn)定性適配基因毒性雜質檢測場景:在避光、低溫(2-8℃)、氮氣密封儲存條件下,羥基結構無氧化風險,亞硝基胺基團無分解或重排反應,可穩(wěn)定保存 12 個月以上,能保障多批次痕量檢測數據的重復性,適配去甲文拉法辛原料藥及緩釋片劑的基因毒性雜質長期監(jiān)控需求。

  • 痕量檢測兼容性優(yōu)異:易溶于甲醇、乙腈、四氫呋喃,可溶于乙腈 - 水(含 0.1% 甲酸)混合溶劑;通過超高效液相色譜 - 串聯質譜(UPLC-MS/MS)多反應監(jiān)測模式,可實現 0.0006 μg/mL 級別的痕量檢出,遠低于 ICH M7 規(guī)定的每日允許暴露量(PDE)限值,滿足基因毒性雜質的高靈敏度檢測要求。

  • 3. 應用
  • 基因毒性雜質監(jiān)控核心場景:用于去甲文拉法辛原料藥及緩釋制劑的質量控制,重點監(jiān)測合成過程中原料帶入亞硝酸鹽、或儲存階段制劑接觸氮氧化物引發(fā)的亞硝化反應生成的該雜質含量 —— 作為臨床常用抗抑郁藥,去甲文拉法辛需符合 ICH M7、EP、USP 對基因毒性雜質的嚴格限量要求(PDE 值通常<8 μg / 天),精準檢測可規(guī)避因雜質超標引發(fā)的用藥安全風險。

  • 合成與儲存工藝優(yōu)化參照:輔助排查雜質生成源頭,例如去甲文拉法辛合成中使用含亞硝酸鹽的溶劑、反應體系未做除氧處理,或緩釋片劑儲存環(huán)境溫濕度異常導致的亞硝化降解等問題;通過嚴控原料亞硝酸鹽含量(<0.0005%)、采用惰性氣體保護合成體系、選用鋁塑復合膜避光防潮包裝制劑,可顯著降低該雜質的生成量。

  • 檢測方法開發(fā)與驗證:作為標準品用于 UPLC-MS/MS 基因毒性雜質檢測方法的驗證,確認方法的定量限(LOQ≤0.0003 μg/mL)、回收率(85%-115%)及基質效應(≤±10%);針對緩釋制劑的高分子輔料基質干擾,可采用固相萃?。⊿PE)技術凈化樣本,結合特征離子對 m/z 279.2→163.1 的多反應監(jiān)測模式,提升痕量檢測的準確性與重復性。

  • 4. 背景描述
  • 去甲文拉法辛是新型 5 - 羥色胺 - 去甲腎上腺素再攝取抑制劑,通過雙重抑制 5 - 羥色胺和去甲腎上腺素的再攝取發(fā)揮抗抑郁作用,臨床廣泛用于重度抑郁癥、廣泛性焦慮障礙的治療,用藥周期通常長達數月至數年。其核心結構含 2-(1 - 羥基環(huán)己基)-2-(4 - 羥基苯基) 乙胺骨架,其中的 N - 甲基仲胺位點是亞硝化反應的敏感區(qū)域,易與亞硝酸鹽或氮氧化物結合生成 N - 亞硝基類基因毒性雜質。
  • N - 亞硝基去甲基去甲文拉法辛是去甲文拉法辛產業(yè)鏈中的關鍵基因毒性雜質:在合成環(huán)節(jié),若反應體系混入亞硝酸鹽或接觸含氮氧化物的氧化劑,仲胺基團會快速發(fā)生亞硝化反應;在儲存環(huán)節(jié),制劑與含亞硝酸鹽的輔料接觸、或長期光照導致包材釋放氮氧化物,也會誘發(fā)該雜質生成。由于其具有潛在致突變性,且去甲文拉法辛用藥周期長,該雜質的痕量控制是藥品合規(guī)上市與長期用藥安全的核心環(huán)節(jié)。
  • 根據 ICH M7 指導原則,亞硝基胺類雜質為明確的 1 類基因毒性雜質,需按每日允許暴露量進行嚴格限量,因此對該雜質的專屬對照品研發(fā)與檢測方法建立,是保障去甲文拉法辛用藥安全的關鍵前提。
  • 5. 研究現狀
  • 檢測技術成熟度:當前主流檢測方法為 UPLC-MS/MS 多反應監(jiān)測模式,采用 C18 超高效色譜柱(如 Waters Acquity UPLC BEH C18),以乙腈 - 0.01 mol/L 甲酸銨緩沖液(pH 4.5)為流動相梯度洗脫,監(jiān)測特征離子對 m/z 279.2([M+H]+)→163.1(失去羥基環(huán)己基片段),定量限(LOQ)可達 0.0002 μg/mL,滿足 ICH M7 對基因毒性雜質的痕量檢測要求;對于緩釋制劑的復雜基質,可結合液液萃取與固相萃取的雙重凈化技術,消除輔料基質干擾。

  • 生成機制與控制策略:研究證實,該雜質生成量與 “亞硝酸鹽濃度” 及 “儲存條件” 直接相關 —— 原料中亞硝酸鹽含量>0.0004% 時,合成環(huán)節(jié)雜質生成量會突破 PDE 限值;緩釋片劑儲存環(huán)境溫度>30℃且相對濕度>65% 時,6 個月內雜質增幅可達 9 倍以上。工藝控制方向已明確為 “采用高純度無亞硝酸鹽的甲基胺原料、合成后經制備型液相純化去除中間體”,儲存控制則需將制劑置于 25℃以下干燥環(huán)境保存并采用避光包裝。

  • 安全性與標準進展:毒理學研究顯示,該雜質 Ames 試驗呈陽性,具有明確致突變性,其 PDE 值經計算為 7.2 μg / 天;目前,EP、USP 在去甲文拉法辛質量標準中已將其列為重點監(jiān)控的基因毒性雜質,明確了 UPLC-MS/MS 檢測方法及限度(≤0.00012%);國內藥典 2025 年版修訂稿也已納入該雜質的質控指標,現有研究為基因毒性雜質的風險評估與合規(guī)質控提供了核心依據。

聯系方式:杜經理 TEL: 17320513646(微信同號)    QQ: 2853567688


備注:我們也可以定制相關類似物和修飾肽,提供包括高效液相色譜(HPLC)、質譜(MS)、核磁共振氫譜(1H-NMR)、質譜(MS)、高效液相色譜(HPLC)、紅外光譜(IR)、紫外光譜(UV)、分析報告(COA)、物質安全數據表(MSDS)等資料。本產品僅用于實驗室用途!


關鍵字: C15H22N2O3 ;Desvenlafaxine;亞硝基文拉法辛雜質;文拉法辛;3017268-48-0;

公司簡介

摩科MOLCOO擁有專業(yè)的藥物肽合成團隊,可根據客戶提供的多肽序列進行藥物肽定制合成,也可為客戶提供多肽藥物研發(fā)中產生的各類降解雜質、工藝雜質現貨。我們提供常規(guī)結構確診譜圖資料如質譜、液相、紫外光譜圖,還可根據客戶需求提供氨基酸組成分析、氨基酸序列測定等資料。根據客戶項目要求純度范圍一般為90%-99%。 其他業(yè)務:藥物雜質對照品、雜質及新分子定制合成、未知雜質制備分離、新藥中間體工藝開發(fā)等。
成立日期 2018-10-08 (8年) 注冊資本 1000萬人民幣
員工人數 50-100人 年營業(yè)額 ¥ 1000萬-5000萬
主營行業(yè) 生化試劑,核苷,核苷酸,寡核苷酸,蛋白組學,有機合成試劑,氨基酸及其衍生物 經營模式 工廠,定制,服務
  • 湖北摩科生物科技有限公司
VIP 2年
  • 公司成立:8年
  • 注冊資本:1000萬人民幣
  • 企業(yè)類型:有限責任公司(自然人投資或控股)
  • 主營產品:藥物肽,多肽定制,雜質對照品,未知雜質制備分離,新藥中間體工藝開發(fā)
  • 公司地址:東湖高新區(qū)軟件新城D2棟
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內容聲明:
以上所展示的信息由商家自行提供,內容的真實性、準確性和合法性由發(fā)布商家負責。 商家發(fā)布價格指該商品的參考價格,并非原價,該價格可能隨著市場變化,或是由于您購買數量不同或所選規(guī)格不同而發(fā)生變化。最終成交價格,請咨詢商家,以實際成交價格為準。請意識到互聯網交易中的風險是客觀存在的
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