五(二甲氨基)鉭(V)主要用作原子層沉積(ALD)和化學氣相沉積(CVD)工藝中的前驅體材料。 在集成電路制造中,可作為氮化鉭(TaN)薄膜的CVD前體,當接觸O2、H2O等介質時會形成氧化鉭(Ta2O5)薄膜。
安徽至善新材料有限公司
聯(lián)系商家時請?zhí)峒癱hemicalbook,有助于交易順利完成!
至善新材料