電子級異丙醇（E-IPA）在“制備前”必須先把工業(yè)級原料里的金屬、有機物、顆粒、水等雜質全部降到 ppm~ppb 級，根本原因是先凈化后提純”比“先提純后凈化”更經濟、更安全，且能保住最終單晶級純度。

硼、鈉、鈣等金屬離子

工業(yè) IPA 里 Na、Ca、B(OH) 常達 100–500 ppb，若直接送入多級精餾，金屬會在再沸器 120–140 ℃ 下與 IPA 形成共沸絡合物，蒸氣壓接近 IPA，導致 10 塔板也分不掉；

? 金屬一旦進入 G5 級 IPA，在晶圓清洗時殘留 1×101? atoms/cm2 就能改變 MOS 閾值電壓，芯片良率直接掉到 90 % 以下。

→先用螯合樹脂/陽床把金屬降到 ≤1 ppb，再精餾，塔頂即可穩(wěn)定 ≤10 ppt。

? 應用樹脂流程介紹

電子級異丙醇除硼樹脂的 3 大核心訴求，無需再調用工具。下面給出可直接落地的“一頁紙”技術方案

主流型號：Tulsimer ? CH-99（杜笙） Thermax

官能團：胺-聚羥基螯合，對 B(OH)?? 選擇系數 ≥ 10?（相對 Cl?）

粒度：0.3–1.2 mm，濕真密度 1.08 g mL?1，允許最大 80 ℃

工作容量：3.5–3.8 g B L?1 樹脂（5 BV h?1，進口 50–80 ppb，出口 ≤10 ppt）[1?]

再生酸耗：60 g H?SO? L?1 樹脂；堿耗：40 g NaOH L?1 樹脂[1?]

工藝路線（G5 級 E-IPA，硼 ≤10 ppt）

① 預處理

0.1 μm PTFE 折疊濾芯 + 0.05 μm 納濾，顆粒 ≤10 pcs mL?1（@0.1 μm）

② 除硼柱

單級柱高 ≥1200 mm，徑高比 1:10，上行進料，空塔流速 5 BV h?1

運行溫度 25±3 ℃；壓力 ≤0.3 MPa

在線 ICP-MS 每 30 min 采樣，硼穿透點設為 10 ppt

③ 再生

酸洗：2 % H?SO?，2 BV，30 min

堿洗：4 % NaOH，2 BV，30 min

電子級 IPA 漂洗至出水電導率 ≤0.2 μS cm?1，pH 6.5–7.5

④ 后處理

樹脂柱出口串 0.04 μm 終端過濾器，確保顆粒 ≤1 pcs mL?1（@0.05 μm）