四甲基氫氧化銨溶液（TMAH 水溶液）

一、基礎(chǔ)信息

• 別名：TMAH 溶液、氫氧化四甲銨水溶液

• 英文名稱：Tetramethylammonium hydroxide aqueous solution

• 有效組分分子式：C?H??NO，結(jié)構(gòu)簡式：(CH?)?NOH

• 有效組分分子量：91.15

• CAS 號：75-59-2（本體）；五水合物 CAS：10424-65-4

• EINECS 號：200-882-9

• 常見規(guī)格：10%、20%、25% 水溶液

• 外觀：無色透明液體，帶有微弱氨 / 魚腥味

• 密度（20℃，25% 溶液）：0.980~0.985 g/cm3

• 堿性：1% 水溶液 pH≈12.9，高濃度溶液 pH＞14，強有機強堿

• 溶解性：與水、乙醇無限互溶，不溶于醚、烷烴類溶劑

二、化學(xué)性質(zhì)

1. 季銨型有機強堿，堿性強度等同于氫氧化鈉、氫氧化鉀，在水中完全電離出四甲基銨陽離子與氫氧根離子。

2. 極易吸收空氣中二氧化碳，生成四甲基碳酸氫銨、碳酸四甲基銨，溶液易渾濁變質(zhì)，需隔絕空氣儲存。

3. 受熱易分解，135~140℃分解生成三甲胺、二甲醚與甲醇，無金屬殘留，區(qū)別于無機強堿。

4. 可與各類有機酸、無機酸完全中和生成四甲基銨鹽；能催化有機硅聚合、光刻膠樹脂剝離水解反應(yīng)。

5. 對鋁、鋅、銅等有色金屬具有強腐蝕作用，適配不銹鋼、PTFE 材質(zhì)設(shè)備。

三、主要用途

1. 半導(dǎo)體 / 微電子行業(yè)：光刻膠顯影液、晶圓清洗蝕刻劑，剝離光刻膠涂層，金屬離子殘留極低，適配芯片制程。

2. 有機合成：相轉(zhuǎn)移催化劑、硅橡膠合成聚合催化劑，替代無機堿避免金屬雜質(zhì)污染產(chǎn)品。

3. 分析化學(xué)：色譜流動相調(diào)節(jié)劑、滴定專用有機強堿試劑。

4. 工業(yè)清洗：精密電子零件、光學(xué)玻璃堿性清洗劑，去除有機樹脂、油脂污垢。

5. 醫(yī)藥、精細(xì)化工：雜環(huán)合成、樹脂改性、脫保護反應(yīng)專用堿。

四、儲存

五、制備工藝