用于硅片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)
要求鈉含量<1 ppm,必須采用多級(jí)離子交換+精密過(guò)濾
低鈉硅溶膠作為型殼粘結(jié)劑
鈉含量過(guò)高會(huì)導(dǎo)致型殼高溫強(qiáng)度下降、鑄件表面粗糙
超細(xì)低鈉α-Al?O?制備中,先用硅溶膠包覆除鈉
最終產(chǎn)品鈉含量影響電池離子電導(dǎo)率和安全性
原理:利用強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂,將Na?替換為H?,生成活性硅酸溶液。工藝流程:硅酸鈉溶液 → 強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂 → 去除Na? → 活性硅酸溶液 → 加堿穩(wěn)定 → 低鈉硅溶膠技術(shù)要點(diǎn):
使用特級(jí)凝膠型強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹(shù)脂(如Tulsimer? T-42 H)
搭配弱堿性陰離子交換樹(shù)脂去除Cl?等陰離子雜質(zhì)
最終加入微量NaOH或氨水作穩(wěn)定劑,控制pH在8.5-10.5
鈉含量可降至PPB級(jí)別,滿足電子級(jí)要求
工藝成熟、產(chǎn)品純度高、可連續(xù)生產(chǎn)
科海思(北京)科技有限公司
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