常用名 對乙酰氧基苯乙烯

別  名 4-乙烯基苯基乙酸酯 |4-乙酰氧基苯乙烯 | 乙酸-4-乙烯基苯基酯 

英文名 4-Ethenylphenol acetate

CAS號 2628-16-2 

EINECS 434-600-2

分子式 C10H10O2 

分子量 162.185

密  度 1.1±0.1 g/cm3 

沸  點 260.0±0.0 °C 

熔  點 7-8 °C

閃  點 87.8±0.0 °C

性  狀 無色液體

用  途

4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作為光致抗蝕劑(光刻膠)主要成分的聚對羥基苯乙烯。聚對羥基苯乙烯系列的化學(xué)增幅型光致抗蝕劑是目前國際上主流的光致抗蝕劑產(chǎn)品，是用于處理光蝕刻集成電路、制造芯片的關(guān)鍵技術(shù)之一。光蝕刻技術(shù)由生產(chǎn)0.3～0.28μｍ線寬，發(fā)展到改用深紫外光（波長248nm）生產(chǎn)0.18μｍ線寬，更可通過超深紫外光（波長193nm）刻畫線寬達0.11μｍ的微細回路。248nm光刻膠通常采用聚對羥基苯乙烯衍生物為成膜樹脂，芳基碘鎓鹽或硫鎓鹽作為光致產(chǎn)酸劑，運用化學(xué)增幅技術(shù)，在光作用下光致酸發(fā)生劑釋放出酸，然后酸催化使聚合物交聯(lián)(負(fù)膠)或發(fā)生脫保反應(yīng)(正膠)，從而使感光靈敏度極大地提高。