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返回ChemicalBook首頁(yè)>CAS數(shù)據(jù)庫(kù)列表>21829-09-4

21829-09-4

中文名稱 貝尼地平雜質(zhì)B
英文名稱 dimethyl 2,6-dimethyl-4-(4-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarb oxylate
CAS 21829-09-4
分子式 C17H18N2O6
分子量 346.33
MOL 文件 21829-09-4.mol
更新日期 2026/05/25 16:56:16
21829-09-4 結(jié)構(gòu)式 21829-09-4 結(jié)構(gòu)式

基本信息

中文別名
貝尼地平雜質(zhì)B
硝苯地平雜質(zhì)1
雙丙戊酸鈉雜質(zhì)5
鹽酸樂(lè)卡地平雜質(zhì)8
貝尼地平雜質(zhì)5(硝苯地平雜質(zhì)1)
2,6-二甲基-4-(4-硝基苯基)-1,4-二氫吡啶-3,5-二甲酸二甲酯
2,6-二甲基-4-(4-硝基苯基)-1,4-二氫吡啶-3,5-二羧酸二甲酯
英文別名
Benidipine Impurity B
Benidipine Impurity 12
Divalproex Sodium Impurity 5
Benidipine Impurity 5 (Nifedipine Impurity 1)
dimethyl 2,6-dimethyl-4-(4-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarb oxylate
1,4-dihydro-2,6-dimethyl-4-(4-nitrophenyl)-3,5-pyridinedicarboxylic acid dimethyl ester
3,5-Pyridinedicarboxylicacid, 1,4-dihydro-2,6-dimethyl-4-(4-nitrophenyl)-, 3,5-dimethyl ester
所屬類(lèi)別
分析化學(xué):藥典標(biāo)準(zhǔn)品和雜質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)品

物理化學(xué)性質(zhì)

熔點(diǎn)165-168 °C
沸點(diǎn)493.1±45.0 °C(Predicted)
密度1.271±0.06 g/cm3(Predicted)
儲(chǔ)存條件2-8°C(protect from light)
酸度系數(shù)(pKa)2.62±0.70(Predicted)
形態(tài)Solid

安全數(shù)據(jù)

危險(xiǎn)性符號(hào)(GHS)有害 (GHS07)
GHS07
警示詞警告
危險(xiǎn)性描述H315-H319

制備方法

方法1
對(duì)硝基苯甲醛

555-16-8

乙酰乙酸甲酯

105-45-3

貝尼地平雜質(zhì)B

21829-09-4

以對(duì)硝基苯甲醛和乙酰乙酸甲酯為原料合成2,6-二甲基-4-(4-硝基苯基)-1,4-二氫吡啶-3,5-二羧酸二甲酯的一般步驟如下:將乙酸銨(1mmol)加入至對(duì)硝基苯甲醛(1當(dāng)量)和乙酰乙酸甲酯(1.1當(dāng)量)在乙醇(1.5mL)中的混合物中,同時(shí)加入Er-MOF催化劑(20mg)。將反應(yīng)混合物在70℃下攪拌4小時(shí)。反應(yīng)完成后,通過(guò)離心分離移除催化劑。隨后,向反應(yīng)混合物中加入鹽水(5mL)和乙酸乙酯(5mL)。用乙酸乙酯萃取混合物,合并有機(jī)相,依次用飽和NaHCO3水溶液(10mL)和鹽水(10mL)洗滌。有機(jī)相經(jīng)無(wú)水Na2SO4干燥后,減壓濃縮。溶劑在真空下完全蒸發(fā)后,通過(guò)柱色譜法純化粗產(chǎn)物,得到目標(biāo)化合物2,6-二甲基-4-(4-硝基苯基)-1,4-二氫吡啶-3,5-二羧酸二甲酯。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,Er-MOF催化劑可回收并重復(fù)使用五次,且催化活性無(wú)明顯降低。

參考文獻(xiàn):

[1] Chemical Communications, 2011, vol. 47, # 32, p. 9230 - 9232

[2] Tetrahedron Letters, 2010, vol. 51, # 8, p. 1187 - 1189

[3] Chemical Papers, 2011, vol. 65, # 6, p. 898 - 902

[4] Catalysis Letters, 2017, vol. 147, # 2, p. 453 - 462

[5] Patent: CN107141249, 2017, A. Location in patent: Paragraph 0130; 0131

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