76-16-4
中文名稱
六氟乙烷
英文名稱
HEXAFLUOROETHANE
CAS
76-16-4
EINECS 編號
200-939-8
分子式
C2F6
MDL 編號
MFCD00000428
分子量
138.01
MOL 文件
76-16-4.mol
更新日期
2026/05/27 08:42:30
76-16-4 結構式
基本信息
中文別名
六氟乙烷全氟乙烷
R116全氟乙烷
英文別名
CFC-116FC-116
HALOCARBON 116
HEXAFLUOROETHANE
PERFLUOROETHANE
1,1,1,2,2,2-Hexafluoroethane
C2F6
ethane,hexafluoro-
Ethylhexafluoride
f116
F-116
FC1160
Fluorocarbon 116
Freon 116
Freon 1166SY
freon116
Hexafluorethan
hexafluoro-ethan
Perfluorocarbon116
PFC116
所屬類別
有機原料：氟乙烷系列物理化學性質
外觀性質無色、無臭的氣體。
熔點−100 °C(lit.)
沸點−78 °C(lit.)
密度1,607 g/cm3
蒸氣密度4.7 (vs air)
蒸氣壓430 psi ( 21 °C)
折射率1.2060
Henry's Law Constant6.5×10-7 mol/(m3Pa) at 25℃, Bonifácio et al. (2001)
InChIInChI=1S/C2F6/c3-1(4,5)2(6,7)8
InChIKeyWMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N
SMILESC(F)(F)(F)C(F)(F)F
EPA化學物質信息Hexafluoroethane (76-16-4)
制備方法
方法1
以活性炭與氟為原料，在裝有活性炭的反應爐中緩慢通入高濃氟氣，通過控制電加熱，供氟速率和冷卻反應爐來控制反應溫度。反應產物經過除塵、堿洗、脫水后，可獲得含ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、Ｃ３Ｆ８的粗品，然后把粗品混合物進行間歇低溫精餾，提?。茫玻疲?，再用分子篩進一步進行 低溫吸附脫水，可獲得純度大于99.7%的Ｃ２Ｆ６。
常見問題列表
簡介
六氟乙烷在微電子工業(yè)中用于等離子蝕刻及表面清洗。六氟乙烷一直是Kanto Denak公司和另兩家日本公司的樣品。Kanto Denka Kogyo公司計劃在下一財政年度大規(guī)模工業(yè)化生產六氟乙烷，該產品作為下一代清潔氣體用于高集程度的半導體生產。六氟乙烷作為半導體氧化膜的超細清潔氣體正日益引起人們的關注，并在2001開始用于生產。就是先使用的八氟丁烷作為蝕刻劑而言，當接觸到孔徑為140納米或更小的元件時八氟丁烷無法起到蝕刻作用。應用
六氟乙烷ODP值(臭氧層破壞潛能值)為零，GWP值(溫室效應能力)為9200.主要應用在低溫制冷與電子清洗及蝕刻行業(yè)，另外少部分應用在醫(yī)學手術中及其它新開發(fā)的領域。制備
氟氣或氮氣和氟氣的混合氣體、四氟乙烯從不同的進料口進入溫度為l0-60℃、壓力為0.1～0.15 MPa的反應器中，控制氣體在反應器中的空速為0.2-10min，進行反應，得到的部分反應產物在反應器出口端通過反應器外接循環(huán)設備離心風機循環(huán)返回反應器進口端，與通過進料口進來的氟氣或氮氣和氟氣的混合氣體以及四氟乙烯混合后進入反應器，循環(huán)反應；得到的另一部分反應產物直接從出料口出來，得到所述六氟乙烷。該發(fā)明所述方法工藝簡單、反應條件溫和、反應器價格便宜；所制備的六氟乙烷含量高、雜質含量低、收率高。化學性質
六氟乙烷化學式C2F6，純度>99.7%，為無色、無臭、無味、不可燃的惰性氣體。微溶于水，熔點-100.6℃，沸點-78℃，液體密度1.60g/ml。應用
六氟乙烷ODP值(臭氧層破壞潛能值)為零，GWP值(溫室效應能力)為9200.主要應用在低溫制冷與電子清洗及蝕刻行業(yè)，另外少部分應用在醫(yī)學手術中及其它新開發(fā)的領域。