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中文名稱
中文同義詞硅光學(xué)窗, 50.8MM (2.0IN) DIA X 1MM (0.04IN) THICK;硅光學(xué)窗, 25.4MM (1.0IN) DIA X 2MM (0.08IN) THICK;硅光學(xué)窗, 25.4MM (1.0IN) DIA X 1MM (0.04IN) THICK;硅光學(xué)窗, 50.8MM (2.0IN) 直徑 X 1MM (0.04IN) 厚;硅片, <100MM 或更小, HIGH PURITY (WILL INCLUDE FINES);硅濺射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 99.;硅濺射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THICK, 99.;硅柱, 9.5MM (0.375IN) DIA X 9.5MM (0.375IN) LENGTH, 99.999
英文名稱Silicon
英文同義詞PERCHLORATEE;Silicon Optical Window, 25.4mm (1.0 in.) dia. x 1mm (0.04 in.) thick, Uncoated, Clear Aperture 85%, Surface Finsh 40/20;Silicon standard solution, 1 mg/ml Si in 2% NaOH;Silicon plate, 6.35mm (0.25 in.) thick;Silicon Optical Window, 25.4mm (1.0 in.) dia. x 2mm (0.08 in.) thick, Uncoated, Clear Aperture 85%, Surface Finsh 40/20;Silicon rod, 2.5cm (0.98 in.) dia.;Silicon granular, Virgin poly fines;Silicon rod, 5.08cm (2.0 in.) dia.
CAS號(hào)7440-21-3
分子式H4Si
分子量32.12
EINECS號(hào)231-130-8
相關(guān)類別微生物;電子化學(xué)品;非金屬;;鍍膜材料;有機(jī)硅氧聚合物;Cu單質(zhì);硅烷試劑;無機(jī)化工產(chǎn)品;無機(jī)鹽;類金屬;分析標(biāo)準(zhǔn)品;粉體;標(biāo)準(zhǔn)品和標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì);納米粒子: 氧化物、氮化物和其他;無機(jī)單元素標(biāo)準(zhǔn)溶液;生化試劑;單質(zhì)金屬粉-硅粉;化工原料;非金屬單質(zhì);硅化物;Inorganics;Electronic Materials;Materials Science;Micro/Nanoelectronics;Metal and Ceramic Science;Metals;Pure ElementsMetal and Ceramic Science;Electronic Chemicals;SiliconNanomaterials;14: Si;Nanomaterials;Nanoparticles: Metals and Metal AlloysMetal and Ceramic Science;Nanopowders and Nanoparticle Dispersions;metal or element;Fine chemical;單質(zhì)金屬粉體-硅粉;硅化物-硅粉;金屬粉末;無機(jī)粉體
Mol文件7440-21-3.mol
結(jié)構(gòu)式硅 結(jié)構(gòu)式

硅 性質(zhì)

熔點(diǎn)1410 °C(lit.)
沸點(diǎn)2355 °C(lit.)
堆積密度0.07-0.08g/cm3
密度2.33 g/mL at 25 °C(lit.)
閃點(diǎn)2.33
儲(chǔ)存條件Flammables area
溶解度不溶于水、酸溶液;溶于堿性溶液
形態(tài)粉末
比重2.42
顏色白色
PH值13.5 (H2O, 20°C)
氣味 (Odor)無味
水溶解性INSOLUBLE
電導(dǎo)率1000 S/m
熱導(dǎo)率150 W/(m·K)
半導(dǎo)體性質(zhì)<111>P-type
比熱容Cp(crystal): 0.62 J/(g·K); Cp(gas): 0.69 J/(g·K), at 25℃
敏感性Air Sensitive
晶體結(jié)構(gòu)Cubic, Diamond Structure - Space Group Fd3m
Merck13,8565
暴露限值ACGIH TLV-TWA:2.5 mg/m3
OSHA PEL-TWA:15 mg/m3 (total dust),5 mg/m3 (respirable fraction)
NIOSH REL-TWA:10 mg/m3 (total dust),5 mg/m3 (respirable fraction);REL-IDLH:250 mg/m3
介電常數(shù)2.4(Ambient)
穩(wěn)定性穩(wěn)定的。細(xì)粉末高度易燃。與氧化劑、堿、碳酸鹽、堿金屬、鉛和鋁的氧化物、鹵素、碳化物、甲酸不相容。
化妝品成分功效磨料
InChI1S/Si
InChIKeyBLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N
SMILES[Si]
Bulk Modulus98.74 GPa
Hardness, Mohs7.0
Modulus of Elasticity112.4 GPa
Poissons Ratio0.28
Knoop Microhardness11270, N/mm2 Microhardness
Shear Modulus43.9 GPa, Calculated
CAS 數(shù)據(jù)庫7440-21-3(CAS DataBase Reference)
NIST化學(xué)物質(zhì)信息Silicon(7440-21-3)
EPA化學(xué)物質(zhì)信息Silicon (7440-21-3)

硅 用途與合成方法

硅的化學(xué)元素符號(hào)為Si,原子序數(shù)為14。它是一種硬而脆的結(jié)晶固體,具有藍(lán)灰色的金屬光澤,是四價(jià)準(zhǔn)金屬和半導(dǎo)體。它是元素周期表中第14組的成員:碳在其上方;鍺,錫和鉛在其下方。它相對沒有反應(yīng)。由于其對氧氣的高度化學(xué)親和力,直到1823年,JönsJakob Berzelius才首次能夠制備氧氣并以純凈的形式對其進(jìn)行表征。它的熔點(diǎn)和沸點(diǎn)分別為1414°C和3265°C,是所有準(zhǔn)金屬和非金屬中第二高的,僅次于硼。以質(zhì)量計(jì),硅是宇宙中第八種最常見的元素,但很少以純元素的形式出現(xiàn)在地殼中。它以各種形式的二氧化硅(硅酸鹽)或硅酸鹽廣泛分布在塵埃,沙粒,類行星和行星中。地殼中90%以上是硅酸鹽礦物,使硅成為地殼中含量第二高的元素(按質(zhì)量計(jì)約為28%),僅次于氧氣。

硅的電子模型

戴維在1800年認(rèn)為二氧化硅是一種化合物而不是元素。蓋·盧薩克(Gay Lussac)和德納德(Thenard)在1809年通過使四氟化硅通過加熱的鉀,獲得了非常不純的非晶硅。 Berzelius在1823年修正了這一發(fā)現(xiàn),用同樣的方法制備了高純度的元素硅。 他還通過將氟硅酸鉀與金屬鉀加熱來獲得硅。 德維爾1854年通過電解含10%硅和少量鋁的不純氯化鈉鋁的熔融混合物進(jìn)行電解生產(chǎn)了晶體硅。

硅存在于太陽和恒星中,并且是一類稱為“隕石”的隕石的主要成分。它也是鈦鐵礦的成分,鈦鐵礦是一種來源不確定的天然玻璃。天然硅包含三種同位素。認(rèn)識(shí)到其他二十四個(gè)放射性同位素。硅占地殼重量的25.7%,是僅次于氧氣的第二大豐富元素。硅在自然界中并不是免費(fèi)的,而是主要以氧化物和硅酸鹽的形式存在。沙子,石英,水晶,紫水晶,瑪瑙,fl石,碧玉和蛋白石是出現(xiàn)氧化物的一些形式?;◢弾r,角閃石,石棉,長石,粘土云母等只是眾多硅酸鹽礦物中的少數(shù)。商業(yè)上通過使用碳電極在電爐中加熱二氧化硅和碳來制備硅??梢允褂闷渌麕追N方法來準(zhǔn)備元素。非晶硅可以制成棕色粉末,可以很容易地熔化或汽化。結(jié)晶硅具有金屬光澤和淺灰色。 以二氧化硅(SiO2)形式存在的硅是地球地殼中含量最豐富的化合物。作為一種元素,硅在地球上的濃度僅次于氧氣,但在整個(gè)宇宙中僅排第七。即使這樣,硅仍被用作標(biāo)準(zhǔn)(Si = 1)來估計(jì)宇宙中所有其他元素的豐度。

硅

1.硅主要用作制多晶硅、單晶硅、硅鋁合金及硅鋼合金的化合物;
2.用于制合金、有機(jī)硅化合物和四氯化硅等,是一種極重要的半導(dǎo)體材料;
3.用于制晶體管、整流器和太陽能電池,還用于制高硅鑄鐵、硅鋼、各種有機(jī)硅化合物等;
4.是制造半導(dǎo)體硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶體管、二極管、開關(guān)器件等;
5.用于制造半導(dǎo)體分立器件、功率器件、集成電路和外延襯底等。

在這個(gè)電子時(shí)代,元素硅具有一些最重要的應(yīng)用。主要應(yīng)用之一是計(jì)算機(jī)芯片。晶體硅的單晶用于固態(tài)或半導(dǎo)體器件。高純硅中摻有硼,磷,砷和鎵等微量元素,是最好的半導(dǎo)體之一。它們用于晶體管,功率整流器,二極管和太陽能電池。硅整流器最有效地將交流電轉(zhuǎn)換為直流電。氫化非晶硅將太陽能轉(zhuǎn)化為電能。面霜中使用了有機(jī)硅(揮發(fā)性)來增強(qiáng)產(chǎn)品的保護(hù)能力,以防止皮膚水分蒸發(fā)。有機(jī)硅聚醚主要用于水性皮膚護(hù)理配方中,并具有改善的柔軟度,光澤度和手感。硅與鐵,鋼,銅,鋁和青銅混合時(shí),也可用作合金。當(dāng)與鋼結(jié)合使用時(shí),它可以制成出色的彈簧,適用于各種類型的用途,包括汽車。

商業(yè)上通過使用碳電極在電爐中將二氧化硅與碳(焦炭)一起加熱來生產(chǎn)單質(zhì)硅:

SiO2 + C→Si + CO2
所得產(chǎn)物的純度約為96-98%。重復(fù)浸出形成約99.7%的純化產(chǎn)物?;蛘?,將低級(jí)硅轉(zhuǎn)化為其鹵化物或鹵代硅烷,然后用高純度還原劑將其還原。可以通過幾種方法來制造用于半導(dǎo)體應(yīng)用的超純硅。這些過程包括用高純鋅還原四氯化硅:

SiCl4 + 2Zn→Si + 2ZnCl2

或使用硅絲在1,150°C的溫度下用氫還原三氯硅烷:

SiHCl3 + H2→Si + 3HCl

或?qū)⒐柰榛蛩牡饣杓訜嶂粮邷兀?/p>

SiH4→Si + 2H2

SiI4→Si + 2I2

或通過用鈉還原四氟化硅:

SiF4 + 4NaF→Si + 4 NaF

三氯氫硅對人體有毒,其蒸氣有窒息性臭味,強(qiáng)烈刺激呼吸道黏膜;其水解產(chǎn)物氯化氫、二氧化硅對肺有刺激,長期吸人可導(dǎo)致貧血。三氯氫硅最高容許濃度為1mg/m3
生產(chǎn)設(shè)備要密閉,車間通風(fēng)應(yīng)良好。生產(chǎn)人員工作時(shí)要佩戴防毒口罩,密閉眼鏡,穿工作服等勞動(dòng)保護(hù)用品,以防止呼吸器官、眼睛和皮膚接觸。中毒者應(yīng)立即轉(zhuǎn)移到新鮮空氣中進(jìn)行人工呼吸、輸氧,注射葡萄糖及強(qiáng)心劑,并迅速送醫(yī)院治療。
化學(xué)性質(zhì) 
具有灰色金屬光澤的晶體。 溶于氫氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和鹽酸。
用途 
主要用作制多晶硅、單晶硅、硅鋁合金及硅鋼合金的化合物。
生產(chǎn)方法 
工業(yè)生產(chǎn)有坩堝直拉法、懸浮區(qū)熔法、中子嬗變摻雜法。
坩堝直拉法拉晶前先將設(shè)備各部件、合金石英坩堝、硅多晶和籽晶進(jìn)行清潔處理。
將硅多晶破碎除去石墨,經(jīng)丙酮去油后,進(jìn)行化學(xué)清洗,用無離子水洗至中性,再經(jīng)超聲波清洗,紅外干燥,配料及摻雜,加入單晶爐的合金石英坩堝中,再經(jīng)抽真空、熔化,在流通的氬氣氛下,人工引晶放肩和收尾。晶體的等徑生長過程中,需根據(jù)情況適當(dāng)調(diào)節(jié)功率,使其獲得直徑均勻的產(chǎn)品,經(jīng)檢測、稱量,制得硅單晶成品。
懸浮區(qū)熔法先將設(shè)備和原料清潔處理,把硅多晶切斷,磨后用丙酮去油,進(jìn)行化學(xué)清洗,用無離子水洗至中性,再經(jīng)超聲波清洗,紅外干燥,配料和摻雜,裝爐,抽真空或充氬氣。在氬氣下高頻加熱進(jìn)行區(qū)熔提純單晶。預(yù)熱、引晶、放肩、等徑、收尾等過程,由人工控制。再經(jīng)檢測、稱量,制得硅單晶成品。
生產(chǎn)方法 
三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通人的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應(yīng),反應(yīng)氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì),再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體,經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達(dá)到7個(gè)“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送人不銹鋼制的還原爐內(nèi),用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。其
H2+C12→2HCl
S+3HCl→SiHC13+H2
SiHCl3+H2→Si+3HCl

安全信息

危險(xiǎn)品標(biāo)志T,F
危險(xiǎn)類別碼11
安全說明26-36/37-45-7/9-33-16-36
職業(yè)暴露等級(jí)B
職業(yè)暴露限值TWA: 10 mg/m3 (total)
危險(xiǎn)品運(yùn)輸編號(hào)UN 1346
WGK Germany2
RTECS號(hào)VW0400000
自燃溫度780°C
TSCATSCA listed
海關(guān)編碼3822 00 00
危險(xiǎn)等級(jí)4.1
包裝類別III
存儲(chǔ)類別4.1B - 易燃固體危險(xiǎn)物質(zhì)
危險(xiǎn)性類別易燃固體 類別2
毒害物質(zhì)數(shù)據(jù)7440-21-3(Hazardous Substances Data)

MSDS信息

提供商 語言
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硅 化學(xué)藥品說明書

更新日期產(chǎn)品編號(hào)產(chǎn)品名稱CAS號(hào)包裝價(jià)格
2026/07/06046654硅粉, -325目, 99.999% (metals basis)
Silicon powder, -325 mesh, 99.999% (metals basis)
7440-21-310g1361元
2026/07/06046308硅粉,晶體, APS ≈100nm, 99%, 等離子合成
Silicon powder, crystalline, APS ≈100nm, 99%, Plasma Synthesized
7440-21-310g3227元
"硅"相關(guān)產(chǎn)品信息
硅酸鈉 鋅粉 碳化硅 鈦酸鋇 三甲基硅咪唑 六甲基二硅烷 三甲基溴硅烷 三甲基氯硅烷 巰丙基三甲氧基硅烷 三甲基乙炔基硅 三甲基碘硅烷 三氟甲磺酸三甲基硅酯 六甲基二硅氮烷 硅碳負(fù)極 硅微粉 納米硅 金屬硅 硅標(biāo)準(zhǔn)溶液 球形硅粉 硅顆粒 區(qū)熔硅晶體 直拉硅晶體 晶圓硅
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