三氟化氮（NF3）主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無(wú)污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。
三氟化氮（NF3）的主要應(yīng)用
IC方面：由于作為半導(dǎo)體工業(yè)中氣體清洗劑的全氟烴(PFC)對(duì)環(huán)境有害,近年來(lái)有逐漸被三氟化氮(NF3)取代之勢(shì)。了解更多電子特氣請(qǐng)關(guān)注微信gasgroup使用NF3作為化學(xué)蒸氣沉積(CVD)箱清洗劑,與全氟烴相比,可減少污染物排放量約90%,且可顯著提高清洗速度,從而可提高清洗設(shè)備能力約30%。
LCD方面：NF3還可用作蝕刻劑,也用于液晶顯示器(LCD)的加工。為此,近年來(lái)NF3需求量急劇增長(zhǎng),90年代中期全球年用量不到46t, 2013年為5100噸。為滿足日益增長(zhǎng)的需求,世界各生產(chǎn)商均在積極擴(kuò)大生產(chǎn)能力,預(yù)計(jì)每年將繼續(xù)增長(zhǎng)約15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高達(dá)10 800,今后的發(fā)展可能會(huì)為此受到一定的限制。
太陽(yáng)能電池：NF3作為蝕刻和清洗氣體也在太陽(yáng)能電池制造行業(yè)廣泛應(yīng)用。
關(guān)鍵字： 三氟化氮;NF3;7783-54-2;
中船重工（邯鄲）派瑞特種氣體有限公司隸屬于中國(guó)船舶集團(tuán)公司第七一八研究所，從事高純特種電子氣體和化學(xué)品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化已四十多年。公司總經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品種類200余種，全國(guó)范圍內(nèi)已形成“四基地六倉(cāng)儲(chǔ)兩中心”的產(chǎn)業(yè)布局，是國(guó)家科技重大專項(xiàng)（02專項(xiàng)）-高純電子氣研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目的牽頭單位，中國(guó)集成電路材料聯(lián)盟副理事長(zhǎng)單位。在電子特氣行業(yè)，已達(dá)到國(guó)內(nèi)第一，世界前十的行業(yè)地位。公司擁有核心自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)42項(xiàng)，牽頭制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)2項(xiàng)，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng)，省部級(jí)以上科技獎(jiǎng)20余項(xiàng)。公司主要產(chǎn)品三氟化氮、六氟化鎢、三氟甲磺酸的國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率保持絕對(duì)領(lǐng)先，是20多家全球知名半導(dǎo)體企業(yè)的第一供應(yīng)商。