六甲基二硅氮烷
中文名稱六甲基二硅氮烷
中文同義詞1,1,1-三甲基-N-(三甲基甲硅烷基)硅烷胺;藥用硅氮烷;六甲基二硅氮烷;六甲基二硅烷胺;六甲基二硅亞胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷電子級;六甲基二硅基胺;1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷
英文名稱Hexamethyldisilazane
CAS號999-97-3
分子式C6H19NSi2
分子量161.39
EINECS號213-668-5
形態(tài)液體
顏色無色
有機硅化合物六甲基二硅氮烷，英文縮寫HMDS，一種重要的有機硅化合物，最常用來增加光刻膠在品圓表面附著力的底漆層，易燃且燃點為6.7℃，當(dāng)在空氣中的濃度為0.8%-16%時具有爆炸性，HMDS會強烈地與水、酒精和礦物質(zhì)酸反應(yīng)釋放出氨水NH3，生成六甲基二硅醚。在催化劑存在下，與醇或酚反應(yīng)，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。與無水氯化氫反應(yīng)，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。
光刻膠應(yīng)用六甲基二硅氮烷(HMDS)底涂通常在應(yīng)用光刻膠之前使用。1970年，IBM的RHCollins和FTDevers在美國專利3,549,368中 描述了HMDS作為光刻膠粘合促進(jìn)劑的用途。該工藝已從基于將晶圓浸入HMDS溶液中的做法逐步發(fā)展為基于蒸汽的過程。盡管可以通過旋涂將HMDS涂敷在晶圓上，但通常不推薦這樣做，因為HMDS厚層的蒸汽蒸發(fā)會在后期造成問題。最典型的HMDS應(yīng)用在真空室中，該真空室將基板的加熱與暴露于HMDS蒸氣相結(jié)合。
關(guān)鍵字： 六甲基二硅氮烷;999-97-3;C6H19NSi2;
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