氧化鎂(Magnesium Oxide,分子式MgO,CAS號:1309-48-4)是一種白色粉末狀無機物,具有堿性氧化物通性,熔點為2852℃,沸點為3600℃,密度為3.58g/cm3。高純氧化鎂在可見和近紫外光范圍內(nèi)具有強折射性,溶于酸和銨鹽溶液,不溶于酒精。
技術(shù)特點:
多級溶劑萃取分離,精準去除痕量雜質(zhì)
化學沉淀深度提純,確保產(chǎn)品超高純度
批次一致性控制,核心雜質(zhì)RSD<5%
可實現(xiàn)4N~5N級超高純度氧化物穩(wěn)定量
主要應用領(lǐng)域
我司99.999%(5N)超高純氧化鎂主要應用于以下高端制造領(lǐng)域:
透明陶瓷領(lǐng)域:作為透明陶瓷的關(guān)鍵燒結(jié)助劑,高純氧化鎂可顯著降低燒結(jié)溫度、促進致密化、抑制晶粒異常長大。研究表明,微量MgO添加可有效提升氧化鋁透明陶瓷、YAG透明陶瓷及AlON透明陶瓷的致密度與透光率。
閃爍晶體領(lǐng)域:微量高純MgO摻雜是優(yōu)化閃爍晶體性能的有效途徑。據(jù)《發(fā)光學報》2021年研究,MgO共摻可顯著優(yōu)化GAGG:Ce晶體的光學及閃爍性能;在LYSO:Ce晶體中,Mg2?摻雜可降低氧空位俘獲效率、抑制余輝、提高光輸出。
壓電晶體領(lǐng)域:高純氧化鎂是鈮酸鋰(LiNbO?)晶體的關(guān)鍵摻雜元素。摻入MgO可將抗光損傷閾值提升1-2個數(shù)量級,滿足激光、量子光學等前沿應用需求。
光學鍍膜與靶材:高純氧化鎂靶材用于PVD/CVD鍍膜工藝,制備光學涂層、抗反射涂層、光學濾波器等;亦用作OLED水氧阻隔層、PDP保護膜材料及光學窗口材料。
電子陶瓷領(lǐng)域:高純氧化鎂在MLCC中作為功能型添加劑,調(diào)控燒結(jié)過程、穩(wěn)定介電性能、提升絕緣電阻。4N級以上產(chǎn)品可滿足MLCC、半導體封裝的絕緣與導熱需求,廣泛用于高頻電路板與芯片封裝。
上海斯年金屬材料有限公司
聯(lián)系商家時請?zhí)峒癱hemicalbook,有助于交易順利完成!
斯年金屬