適用場合

• 半導體芯片制造工廠：用于潔凈室或物料準備區(qū)存放紫外光刻膠、深紫外光刻膠、電子束光刻膠等。

• 光電子與MEMS企業(yè)：儲存圖形化工藝所需的各類正性、負性光敏樹脂及輔助材料。

• 納米材料與微納加工實驗室：為科研用高精度光刻膠提供規(guī)范的避光冷藏條件，保障試驗可重復性。

• 第三方檢測與失效分析機構(gòu)：存放需特定溫度、避光環(huán)境的化學試劑及標準品。

• 高校微電子、材料專業(yè)實驗室：滿足教學與課題研究中對光敏材料儲存的要求。

產(chǎn)品特點

• 全遮光設計：柜門采用實體遮光結(jié)構(gòu)，無透明視窗，箱體密封性良好，完全隔絕外界紫外光與可見光滲入。內(nèi)部取消常規(guī)照明燈，可依據(jù)需求選配無紫外輸出的輔助光源，在短時開門取放時也可減少不必要曝光。

• 精準恒溫控制：微電腦溫度控制系統(tǒng)，數(shù)字顯示實時溫度，設定溫度可在寬幅區(qū)間內(nèi)按需調(diào)節(jié)（常見如2~8℃冷藏或15~25℃恒溫，具體根據(jù)光刻膠說明書設定），溫控波動幅度小，長期運行穩(wěn)定在目標值附近。

• 均勻溫場設計：通過優(yōu)化的風道循環(huán)或制冷均溫方式，箱內(nèi)各擱架層溫差控制在較窄范圍，避免局部過冷或過熱造成膠體變性，確保批量存放的均一性。

• 內(nèi)部潔凈防腐蝕：內(nèi)膽采用耐腐蝕且易擦拭的材質(zhì)，可抵御光刻膠揮發(fā)性溶劑的輕微侵蝕，清潔時不易留痕，有助于維持內(nèi)部潔凈環(huán)境。擱架承重力好，高度可自由調(diào)節(jié)，適配不同規(guī)格的光刻膠瓶、安全罐或取樣盒。

• 多重安全預警：具備高低溫超限報警、開門延時提醒及傳感器異常指示等功能，當溫度偏離設定值或柜門未關(guān)妥時，及時發(fā)出聲光提醒，方便操作人員迅速檢查，降低因環(huán)境波動導致的材料風險。

• 低振動運行：選用穩(wěn)定型壓縮機和減振設計，運行噪音低、振動小，對需要在潔凈室或安靜實驗環(huán)境下放置的設備來說較為友好，同時減少振動對儲存樣品的潛在擾動。