適用場合

• 半導體晶圓制造廠：存放紫外光刻膠、深紫外光刻膠、電子束光刻膠等，維持涂布前的最佳流動性與感光特性。

• 集成電路設計及封裝實驗室：用于光刻膠、顯影液、增粘劑等配套試劑的日常恒溫儲存，便于取用。

• 高校與研究所微納加工平臺：為各類曝光實驗提供持續(xù)低溫保存條件，確保實驗批次間條件一致。

• 光學元件與顯示面板制造：在光刻工藝的物料準備區(qū)，為光敏材料提供潔凈、控溫的存儲空間。

產(chǎn)品特點

• 恒定 2-8℃ 區(qū)間控溫：采用微電腦溫度控制系統(tǒng)，數(shù)顯實時溫度，可在 2-8℃ 范圍內按需設定，溫度波動幅度小，長久運行溫度不易偏移，避免低溫析出或溫度過高導致光刻膠性能變化。

• 均勻溫場設計：通過優(yōu)化的風道循環(huán)或傳導均溫結構，箱內各層擱架之間溫差控制在一定范圍，減小因溫度不均引起的同一批次光刻膠狀態(tài)差異。

• 穩(wěn)定制冷與可靠防護：選用高效壓縮機，配合良好的箱體密封與保溫層，即使在頻繁開門取樣的工況下，也能較快恢復設定溫度；具備高低溫越限報警、開門延時提醒及傳感器故障提示，遇異?？杉皶r響應。

• 潔凈易潔內腔：內膽采用耐腐蝕、易擦拭材質，不易殘留污漬及化學氣味；可調擱架承重穩(wěn)固，適合放置不同規(guī)格的光刻膠瓶、試劑瓶及樣品盒，合理利用內部空間。

• 低噪運行與便捷查看：運行音量較低，適合安置在實驗室操作臺旁或工藝準備間；配備透明玻璃視窗或箱內照明（以實際配置為準），無需開門即可觀察儲存物品概況，減少開門帶來的溫度干擾。