產(chǎn)品介紹

1、產(chǎn)品名：一氧化硅、氧化亞硅、氧化硅(II)、SiO

2、純度：99.99%、4N、高純、光學級、鍍膜級、分析純

3、形態(tài)：塊狀、顆粒、粉末、超細、納米、微米、燒結(jié)塊、1-40mm、200目

4、應用場景：光學鍍膜、真空鍍膜、冷光膜、保護膜、裝飾鍍膜、精細陶瓷、半導體材料、鋰電負極材料

5、別名：氧化亞硅、高純氧化亞硅、光學鍍膜材料

我們提供的高純一氧化硅產(chǎn)品又稱氧化亞硅SiO，是一種具備特定物理化學特性的高純化合物半導體材料，外觀棕黑色粉末，純度可達99.99%（4N級），通過工藝控制將痕量金屬雜質(zhì)含量維持在較低水平，以支持下游產(chǎn)品性能的穩(wěn)定性需求。

形態(tài)與規(guī)格：可根據(jù)應用場景提供塊狀、顆粒、粉末等多種物理形態(tài)。塊狀產(chǎn)品結(jié)構(gòu)致密，呈黑色甲殼狀；粉末產(chǎn)品具有較高比表面積，適用于合成加工場景。

熱學性能參數(shù)：熔點高于1700℃，沸點1880℃，在高溫真空環(huán)境下具有較好的熱穩(wěn)定性。

化學穩(wěn)定性：常溫下化學性質(zhì)穩(wěn)定，不溶于水，不與堿發(fā)生反應，僅溶于氫氟酸與硝酸的混酸體系，適用于特定腐蝕環(huán)境下的材料設計。

主要應用方向

1. 真空鍍膜與光學器件

一氧化硅是光學鍍膜領域常用的蒸發(fā)材料之一。在真空環(huán)境中蒸發(fā)后，可用于制備保護膜、增透膜、冷光膜及干涉濾光片。其在550nm波長附近的折射率約為1.8~1.9，透光波段覆蓋0.4至9微米范圍，可滿足部分光學器件的表面防護與光學調(diào)控需求。

2. 精細陶瓷與半導體材料

作為精細陶瓷合成的原料之一，一氧化硅微粉可用于制備氮化硅（Si?N?）、碳化硅（SiC） 等結(jié)構(gòu)陶瓷材料。在半導體相關應用場景中，高純SiO也作為部分電子功能材料的制備原料被采用。

3. 鋰電負極材料

在鋰離子電池領域，一氧化硅具有高于傳統(tǒng)石墨的理論比容量，因此被視為下一代高密度負極材料的研究方向之一。當前行業(yè)普遍通過納米化及預鋰化工藝對SiO復合材料進行改性，以優(yōu)化其循環(huán)性能與體積膨脹控制。

供應能力

我們支持從克級到噸級的靈活供貨，具備從原料提純到成品加工的完整生產(chǎn)能力。產(chǎn)品采用真空包裝、避光避潮存儲（標準規(guī)格為1kg/袋，亦可按需定制），以保障運輸及存儲階段的產(chǎn)品品質(zhì)。

使用注意事項

本產(chǎn)品為工業(yè)級/科研級材料，具體應用效果與工藝條件密切相關，建議用戶根據(jù)實際設備與工藝參數(shù)進行充分驗證。儲存時請置于干燥、陰涼、通風環(huán)境，避免與氧化劑、酸類物質(zhì)（氫氟酸/硝酸混酸除外）接觸。