基本信息

3-脲丙基三甲氧基硅烷，英文名：1-[3-(Trimethoxysilyl)propyl]urea，CAS號(hào)：23843-64-3，分子量：222.314，密度：1.1±0.1 g/cm3，沸點(diǎn)：251.2±32.0°C at 760 mmHg，分子式：C7H18N2O4Si，熔點(diǎn)：<-25°C，閃點(diǎn)：105.7±25.1°C，為琥珀色透明液體。

應(yīng)用

1、衛(wèi)敏等人以3-脲丙基三甲氧基硅烷為偶聯(lián)劑，制備了一種新型極性脲丙基-C30(TPU-C30)反相色譜固定相。以不同極性、位置異構(gòu)、堿性化合物為溶質(zhì)探針，以傳統(tǒng)的C18色譜柱與C30色譜柱為參比，對(duì)制備的固定相的色譜性能進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明，TPU-C30固定相具有不同于傳統(tǒng)C18柱、C30柱的選擇性和更優(yōu)的擇形性，明顯改善了堿性物質(zhì)的峰形，其具有廣闊的應(yīng)用空間^[1]。

2、李董艷在其論文中，基于表面印跡和抗原決定基印跡制備熒光增強(qiáng)型印跡材料及其應(yīng)用。該印跡材料是以二氧化硅包覆的量子點(diǎn)為載體和熒光源，苯基磷酸為模板，3-脲丙基三甲氧基硅烷為功能單體，正辛基三甲氧基硅烷為交聯(lián)劑，采用表面印跡和抗原決定基印跡法制得。根據(jù)印跡孔穴和模板分子的匹配作用，制備的印跡材料能識(shí)別模板分子苯基膦酸。苯基膦酸作為酪氨酸磷酸化多肽的“抗原決定基”，故該印跡材料也能夠識(shí)別目標(biāo)分子酪氨酸磷酸化多肽。在最優(yōu)的條件下，該熒光材料對(duì)酪氨酸磷酸化多肽的檢測(cè)范圍為0.5-35 uM，檢出限為0.37uM。該熒光材料對(duì)實(shí)際樣品進(jìn)行了分析，并取得了良好的效果^[2]。

3、專利CN201511027128.8公開了一種用于低K介電材料的清洗處理的清洗液組合物，該清洗液組合物包含抑制劑，該抑制劑為硅烷偶聯(lián)劑，選自3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2(氨乙基)3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油丙基三甲氧基硅烷、3-脲基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、3-異氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷中的一種或幾種。本發(fā)明通過(guò)加入硅烷偶聯(lián)劑類化合物,制備的清洗液組合物對(duì)于低K介電材料的腐蝕速率低于行業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)(4?/min)，有效地克服了低K介電材料腐蝕問(wèn)題^[3]。

參考文獻(xiàn)

[1]衛(wèi)敏,金小青,趙岳星. 一種新型極性脲丙基-C30固定相的制備和性能評(píng)價(jià)[J]. 色譜,2019,37(2):143-148. DOI:10.3724/SP.J.1123.2018.09020.

[2]李董艷. 基于量子點(diǎn)與碳點(diǎn)的新型熒光印跡材料的制備及其應(yīng)用[D]. 天津:南開大學(xué),2015. DOI:10.7666/d.D795727.

[3]上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司. 一種用于低K介電材料的清洗處理的清洗液組合物:CN201511027128.8[P]. 2016-05-04.