六氟乙烷在半導(dǎo)體與微電子工業(yè)中用作等離子蝕刻氣體、器件表面清洗劑，還可用于光纖生產(chǎn)與低溫制冷。因其具有無毒無臭、高穩(wěn)定性而被廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造過程中，例如作為蝕刻劑、化學(xué)氣相沉積(CVD)后的清洗氣體，在等離子工藝中作為二氧化硅和磷硅玻璃的干蝕氣體。

近年來，隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅猛發(fā)展，對電子特氣的純度要求越來越高，而六氟乙烷由于具有邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微、高蝕刻率及高精確性的優(yōu)點(diǎn)，解決了常規(guī)濕法腐蝕不能滿足0.18-0.25 μm的深亞微米集成電路高精度細(xì)線蝕刻的問題，可以極好地滿足此類線寬較小的制程要求。在以SiH4為基礎(chǔ)的各種CVD制程中，六氟乙烷作為清洗氣體，與甲烷相比具有排放性低、氣體利用率高、反應(yīng)室清潔率和設(shè)備產(chǎn)出。

率高等特點(diǎn)。高純六氟乙烷是超大規(guī)模集成電路所必需的介質(zhì)，對半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展起著重要的作用。

目前六氟乙烷的制備有多種工藝路線方法，主要包括電化學(xué)氟化法、熱解法、金屬氟化物氟化法、氟化氫催化氟化法、直接氟化法。①電化學(xué)氟化法：乙炔、乙烯或乙烷在電解條件下氟化；②熱解法：通過四氟乙烯和CO2之間的熱分解反應(yīng)制備；③金屬氟化物氟化法：如乙炔、乙烯和乙烷與金屬氟化物(CoF3、MnF3、AgF2)進(jìn)行反應(yīng)；④氟化氫催化氟化法：催化劑存在下氟化全鹵代乙烷化合物(C2FxCly)；⑤直接氟化法：活性炭、乙炔、乙烷和五氟乙烷等氣體直接與氟氣反應(yīng)。

目前國內(nèi)半導(dǎo)體級六氟乙烷生產(chǎn)商主要有華特股份和中船重工718所，兩者現(xiàn)有產(chǎn)能分別為350噸/年和50噸/年，新增產(chǎn)能分別為100噸/年和60噸/年，其中華特股份新增產(chǎn)能為科創(chuàng)板募投項(xiàng)目，中船重工718所新增產(chǎn)能于2018年12月環(huán)評公告。此外，華安新材料具備六氟乙烷產(chǎn)能300噸，但主要為制冷劑產(chǎn)品；巨化股份參股公司博瑞電子擬建55噸六氟乙烷產(chǎn)能，2019年2月環(huán)評公告。