簡介

氨基磺酸鎳是氨基磺酸鹽體系電鍍鎳鈷合金的主要材料之一，氨基磺酸鹽體系因其具有內(nèi)應(yīng)力低、主鹽溶解度大、電鍍和電鑄速率快等優(yōu)點，廣泛用于精密電鍍和鎳鈷合金電鑄等工業(yè)領(lǐng)域。鐵是控制氨基磺酸鎳質(zhì)量的重要指標(biāo)之一，由于鎳和鐵同屬第4周期第Ⅷ族，它們具有相似的物理和化學(xué)性質(zhì)，并且在氨基磺酸鎳產(chǎn)品中，鎳含量為180 g/L，鐵含量為（1~15）mg/L，鎳含量是鐵含量的1~10萬倍，大量鎳的存在會對鐵的測定產(chǎn)生嚴(yán)重干擾。因此，現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)《電鍍用氨基磺酸鎳》（GB/T 23847—2017）采用將鐵和基體鎳分離的方法，具體是通過乙酸乙酯將氨基磺酸鎳中的鐵萃取到有機相中，然后再用鹽酸羥胺溶液進行反萃取，將有機相中的鐵萃取到水溶液，然后水溶液中鐵離子與1,10-菲啰啉生成橙紅色絡(luò)合物，最后通過比色測定。馮俊婷等采用基體匹配法消除基體效應(yīng)，建立了直接測定氨基磺酸鎳中鐵含量的ICP-OES方法，該方法無需萃取分離，操作簡便、快速、準(zhǔn)確，適用于氨基磺酸鎳產(chǎn)品質(zhì)量控制[1]。

氨基磺酸鎳的性狀

用途

氨基磺酸鎳用于低應(yīng)力電鍍鎳，可降低鍍層內(nèi)應(yīng)力并提高鍍層質(zhì)量。例如：對實際電鍍條件下，氨基磺酸鎳鍍層具有低應(yīng)力的現(xiàn)象進行應(yīng)力理論分析，具有重要的實際意義。本文通過常用電解鎳和含硫去極化鎳陽極在不同的陽極狀態(tài)下的鍍液和鍍層分析，確認(rèn)了氨基磺酸鎳的陽極氧化產(chǎn)物使鍍層含硫及應(yīng)力降低，并由一組氨基磺酸鎳和瓦特鎳鍍層含雜量（不包括硫）、含氫量及織構(gòu)的對比實驗，從應(yīng)力理論上解釋了正常鍍低應(yīng)力氨基磺酸鎳時其鍍層應(yīng)力低的原因。至于是何種物質(zhì)使鍍層含硫還有待于進一步的研究[2]。

參考文獻

[1] 徐文柱. ICP-OES法測定氨基磺酸鎳中的鐵 [J]. 精細(xì)與專用化學(xué)品, 2022, 30 (11): 51-54. DOI:10.19482/j.cn11-3237.2022.11.13.

[2] 童修強.氨基磺酸鎳鍍層低應(yīng)力的理論分析[J].電鍍與精飾, 1989, 000(004):3-7.