四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蝕刻。同時，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學穩(wěn)定性極強，CF4還可用于金屬冶煉和塑料等行業(yè)。就目前而言，CF4以其相對低廉的價格將會長期占據(jù)著蝕刻氣體的市場，因此具有廣闊的發(fā)展?jié)摿Α?/p>

四氟化碳的合成工藝有烷烴直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氫氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法四種，目前工業(yè)上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法。這種生產(chǎn)工藝的優(yōu)點是原料易得、反應(yīng)可控、產(chǎn)物純度高。該方法已實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)，產(chǎn)品純度高達99.99%以上，可滿足電子工業(yè)的需求，已成為工業(yè)上制備四氟化碳的最主要方法。

未來，如果OLED新工藝得到突破，四氟化碳的需求將會顯著增加，2021年國內(nèi)四氟化碳需求量將超過3000噸，2025年有望超過8000噸

目前我國半導體工廠的四氟化碳50%來自于日本，國內(nèi)四氟化碳主要生產(chǎn)廠家有科美特，華特氣體等。其中，科美特四氟化碳年產(chǎn)能為1200噸/年，氣體純度高、質(zhì)量穩(wěn)定，2016年已成為全球晶圓制成公司臺積電的合格供應(yīng)商，另有2000噸/年四氟化碳產(chǎn)能于2018年公告環(huán)評；昊華科技全資子公司黎明院擬投資建設(shè)1000噸/年四氟化碳的項目，待項目投產(chǎn)后黎明院將成為國內(nèi)第二大四氟化碳生產(chǎn)廠商。