三氟碘甲烷新聞專題
三氟碘甲烷的應用
三氟碘甲烷（CF3I）作為半導體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（CF3I）具有高選擇性和高深寬比。它作為電氣設備絕緣與滅弧氣體用于溫室氣體SF6的替代，絕緣強度大約為SF6的1.23 倍以上，擊穿分解后不會產(chǎn)生有毒產(chǎn)物。
2023/2/22 11:02:27
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三氟碘甲烷的提純方法和工業(yè)化生產(chǎn)方法
三氟碘甲烷(CF3I)，沸點為-22.5℃，臨界壓力為3.95MPa，標準大氣壓下為無色無味氣體。CF3I作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟效用高、滅火后不留痕跡等特點，是三氟一溴甲烷(哈龍1301)優(yōu)選替代品種；作為制冷劑，CF3I不燃，具有油溶性和材料相容性很好的特點，被認為是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑組元的理想替代品之一。另外，CF3I在含氟中間體、半導體蝕刻、發(fā)泡劑等其他領域也具有廣泛的應用
2020/10/29 15:35:12
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