三氟碘甲烷（CF3I）作為半導(dǎo)體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進(jìn)制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（CF3I）具有高選擇性和高深寬比。它作為電氣設(shè)備絕緣與滅弧氣體用于溫室氣體SF6的替代，絕緣強(qiáng)度大約為SF6的1.23倍以上，擊穿分解后不會產(chǎn)生有毒產(chǎn)物；它作為滅火劑主要用于哈龍滅火劑的替代，具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟(jì)效用高、滅火后不留痕跡等特點(diǎn)；它作為制冷劑主要用于傳統(tǒng)氟利昂制冷劑CFCs、HCFCs、HFCs的替代，具有不燃、油溶性和材料相容性很好的特點(diǎn)，已被聯(lián)合國列入第3代環(huán)保制冷劑的主要組元。

此外，三氟碘甲烷還能與有機(jī)金屬試劑作用，是有機(jī)合成中引入氟代甲基的重要含氟中間體，可廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物化學(xué)、農(nóng)藥、醫(yī)藥、表面活性劑和染料等領(lǐng)域。

三氟碘甲烷，又稱三氟甲基碘(以下稱CF3I)，分子式CF3I，代號FIC-13I1、Freon13I1、R–1311。其環(huán)保特性優(yōu)異：ODP值為在0.0001以下，GWP值為1，大氣壽命小于1.2天。具備安全性好，無毒、阻燃、油溶性和材料相容性好等特點(diǎn)。

目前，三氟碘甲烷的生產(chǎn)、純化技術(shù)一直由發(fā)達(dá)國家化學(xué)品公司壟斷，嚴(yán)重依賴進(jìn)口，受控于國際市場，價(jià)格高，訂貨周期長、運(yùn)輸困難。國內(nèi)三氟碘甲烷的研究、生產(chǎn)尚處于初步階段。伴隨著國際環(huán)保公約階段性強(qiáng)制推行，國內(nèi)對溫室氣體減排要求提高，低GWP氣體CF3I備受推崇，隨著CF3I的應(yīng)用開發(fā)日益增加，作為滅火劑、混合制冷成分、刻蝕劑、絕緣氣體、含氟中間體等使用，其市場需求明顯增加，國產(chǎn)化規(guī)模生產(chǎn)技術(shù)的開發(fā)日益迫切。