硅化鉬可用于制備高溫電爐發(fā)熱元件、抗氧化涂層與低阻導(dǎo)電薄膜，也可應(yīng)用于微電子工業(yè)及提升鉬基體的高溫抗氧化性能。

硅化鉬（Molybdenum Disilicide, MoSi2）是一種鉬的硅化合物，也稱(chēng)為二硅化鉬，硅化鉬具有高熔點(diǎn)、低密度、良好的導(dǎo)熱性和良好的導(dǎo)電性以及優(yōu)良的高溫抗氧化性、高彈性模量、低熱膨脹系數(shù)、較高的強(qiáng)度、耐化學(xué)腐蝕和良好的抗熱震性，被廣泛應(yīng)用于高溫發(fā)熱體元件材料和高溫抗氧化涂層材料，也是極具發(fā)展?jié)摿Φ母邷亟Y(jié)構(gòu)材料和耐磨材料。